SAMURAI - NIMS Researchers Database

HOME > 口頭発表 > 書誌詳細

硬X線光電子分光によるVO2薄膜のMIT制御メカニズムの解明:Wドープ効果
(Control mechanism of MIT for VO2 thin film investigated by hard x-ray photoemission spectroscopy: W-doping effects)

高見英史, 神吉輝夫, 上田 茂典, 小林 啓介, 田中秀和.
2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会. 2010年09月14日-2010年09月17日.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻: 2017-01-08 04:01:39 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:51:10 +0900

    ▲ページトップへ移動