HOME > 口頭発表 > 書誌詳細角度制御型マグネトロンスパッタリング装置を用いた 酸化亜鉛薄膜の作製と成膜条件の検討(Fabrication and Optimization of Zinc Oxide Thin Film Growth using Angle-Controlled Magnetron Sputtering)保坂 拓己, 山形 栄人, Sergey Grachev, Herve Montigaud, 石垣 隆正, 大橋 直樹, 大澤 健男. 日本セラミックス協会第31回秋季シンポジウム. 2018年09月05日-2018年09月07日.NIMS著者大橋 直樹大澤 健男Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2019-03-04 09:36:25 +0900更新時刻: 2019-03-04 09:36:25 +0900