HOME > 口頭発表 > 書誌詳細4K高Q値運転可能な超伝導加速空洞のための電気メッキ法によるNb3Sn成膜(Nb3Sn Formation Using Electroplating Method for 4 K HIGH-Q Operable SRF Cavity)柏木 茂, 文珠四郎 秀昭, 早野 仁司, 井藤 隼人, 本多 史憲, 菊池 章弘. 第17回日本加速器学会. 2020年09月02日-2020年11月04日.NIMS著者菊池 章弘Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2020-11-26 03:00:24 +0900更新時刻: 2020-11-26 03:00:24 +0900