HOME > 口頭発表 > 書誌詳細パワーデバイス応用に向けたNb:Bi2WO6薄膜の製膜条件最適化髙桑 一朗, 清野 隆介, 鈴木 晴也, 西尾 圭史, 浅沼 周太郎, 根本 善弘, 西宮 ゆき, 東 陽一, 伊藤 利充, 蓑原 誠人. 第23回無機材料合同研究会. 2025-08-27.NIMS著者根本 善弘Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2026-08-26 03:07:02 +0900 更新時刻: 2026-08-26 03:07:02 +0900
