HOME > 口頭発表 > 書誌詳細原子レベルで平坦なエピタキシャルアルミナ極薄膜の成長(Growth of Atomically Flat Epitaxial Alumina Thin Films)吉武 道子, Slavomir Nemsak, Yaroslava LYKHACH. 第67回応用物理学学術講演会. 2006年08月29日-2006年09月01日.NIMS著者吉武 道子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 10:54:23 +0900 更新時刻: 2017-07-10 19:41:30 +0900