HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Theoretical study of WS2 thin film on an amorphous SiO2 substrate畠山裕生, LU, Anh Khoa Augustin, 渡邉聡. 2026年日本表面真空学会学術講演会（JVSS 2026）. 2026年09月15日-2026年09月17日.NIMS著者ルー アン コア オーグスティンMaterials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2026-10-03 03:10:03 +0900 更新時刻: 2026-10-03 03:10:03 +0900
