HOME > 口頭発表 > 書誌詳細角度制御型マグネトロンスパッタリング装置を用いた 酸化亜鉛薄膜の作製と成膜条件の検討(Fabrication and Optimization of Zinc Oxide Thin Film Growth using Angle-Controlled Magnetron Sputtering)保坂 拓己, 山形 栄人, 大澤 健男, Sergey Grachev, Herve Montigaud, 石垣 隆正, 大橋 直樹. 2018年 第79回応用物理学会秋季学術講演会. 2018年09月18日-2018年09月21日.NIMS著者大澤 健男大橋 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2019-03-04 09:36:57 +0900更新時刻: 2019-03-04 09:36:57 +0900