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[公開特許出願] 開始剤修飾ナノロッド及びその製造方法、グラフト化ナノロッド及びその製造方法、グラフト化ナノロッド分散液晶、グラフト化ナノロッド分散液晶配向膜、偏光光学素子、並びに、キャップ剤修飾ナノロッド

2014-08-25. 特開2014152213号 (Google Patents) , 特許6091232号

NIMS著者


    作成時刻 :2023-07-22 21:45:44 +0900 更新時刻 :2023-07-22 21:45:44 +0900

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