イオンスパッタリング法による金属組織観察のためのエッチング技術
(A New Etching Technique by Ion Sputtering for Microstructural Examination)
NIMS author(s)
Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)
Created at: 2020-11-20 10:45:12 +0900 Updated at: 2020-11-20 10:45:12 +0900