半導体製造装置向け高純度炭化ケイ素製品の開発 | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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半導体製造装置向け高純度炭化ケイ素製品の開発
(Development of SiC materials for semiconductor production)

和田　宏明, 荻野　隆夫, 高橋　佳智, 遠藤　茂樹, 田中英彦.

CHEMISTRY AND CHEMICAL INDUSTRY 62 [4] 481-482. 2009.

NIMS著者

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2020-11-20 10:34:51 +0900 更新時刻: 2020-11-20 10:34:51 +0900

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