イオン注入法による膜厚300Aの高Tc(108K)Bi超電導薄膜の合成.
(Synthesis of 300-A-Thick Bi System Superconducting Thin Films by Use of Implantation Technique.)
NIMS著者
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作成時刻: 2020-11-20 10:43:14 +0900 更新時刻: 2020-11-20 10:43:14 +0900