モリブデンを基材にした活性化イオンプレーティングによる炭化ケイ素皮膜の作製
(Preparation of Silicon Carbide Films on Molybdenum by RF Reactive Ion Plating)
NIMS著者
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作成時刻: 2016-05-24 11:26:41 +0900更新時刻: 2018-12-15 00:14:19 +0900