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静滴法における新しいデータ解析法とCu-20mass%Ni/Al2O3系への適用.
(New Data Processing for the Sessile Drop Technique and the Application to Cu-20mass%Ni/Al2O3 System.)

著者檀武弘, 原田 幸明, 村松祐治.
掲載誌名日本金属学会誌 55 [10] 1123-1129
出版社
発表年1991
言語Japanese

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