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Real-time Ellipsometric Observation of Sefractive Index Change of Ultra Thin Silicon Oxide Film Growth.
(シリコンの極薄酸化膜成長時における屈折率変化の実時間観察.)

黒木, M. Kitajima, 河辺隆也, H. Kuroki, T. Kawabe.
Solid State Communications 88 [10] 785-788. 1993.

NIMS著者


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      作成時刻: 2016-05-24 11:34:27 +0900更新時刻: 2025-03-15 06:34:22 +0900

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