In situ high-temperature X-ray observation of crystallization during the fabrication of non-silica(20ZnO 80TeO2) glass-preform of optical devices.
(光学デバイス用非シリケートプリフォーム作製の過程で生じる結晶化の高温X線その場観察)
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻 :2016-05-24 11:55:16 +0900 更新時刻 :2022-09-05 11:19:28 +0900