Focused Ion Beam Interfaced with a 200 keV Transmission Electron
Microscope for In Situ Micropatterning on Semiconductors
(半導体微細加工のための200keV電顕への集束イオンビームインターフェイス)
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2018-07-19 10:24:58 +0900 更新時刻: 2026-10-08 07:17:49 +0900