Tunnel magnetoresistance in magnetic tunnel junctions with Co2Fe(Al,Si) full-Heusler films | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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Tunnel magnetoresistance in magnetic tunnel junctions with Co2Fe(Al,Si) full-Heusler films
(Co2FeAl0.6Si0.5ホイスラー合金膜を用いた強磁性トンネル接合のトンネル磁気抵抗)

Nobuki Tezuka, Naomichi Ikeda, Aya Miyazaki, Susumu Okamura, Maki Kikuchi, S.Sugimoto, INOMATA, Kouichiro.

JOURNAL OF MAGNETISM AND MAGNETIC MATERIALS 310 [2 Part3] 1940-1942. 2007.

NIMS著者

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2016-05-24 15:30:06 +0900更新時刻: 2018-12-15 01:17:07 +0900

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