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PREPARATION OF POLYCRYSTALLINE Si1-xGex THIN FILMS BY ION-BEAM EVAPORATION
(大強度パルスイオンビーム蒸着法による多結晶Si1-xGex薄膜の作製)

岩下竜馬, 有門経敏, 平井誠, 内富直隆, KIMOTO, Koji, MITOME, Masanori, MATSUI, Yoshio, OSADA, Minoru, 末松久幸, 江偉華, 八井浄.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻: 2016-05-24 12:01:48 +0900 更新時刻: 2018-12-15 01:46:42 +0900

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