Application of Total Reflection X-ray Fluorescence Analysis for the Determination of Trace Metals in a High-Purity Copper | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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Application of Total Reflection X-ray Fluorescence Analysis for the Determination of Trace Metals in a High-Purity Copper
(マトリックス電解分離－全反射蛍光X線分析法による高純度銅分析)

Sinji Itoh, 五十嵐淑郎, 内藤久仁茂, 長谷川良佑, Hitoshi Yamaguchi, Shukuro Igarashi, Kunishige Naitoh, Ryosuke Hasegawa.

Fresenius' Journal of Analytical Chemistry 362 [4] 395-398. 1998.

https://doi.org/10.1007/s002160051092

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作成時刻: 2016-05-24 11:36:10 +0900 更新時刻: 2026-11-01 04:44:15 +0900

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