半導体素子用絶縁膜の元素および化学結合状態
(Elemental and chemical analysis of dielectric thin film for semiconductor devices)
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2016-05-24 11:58:41 +0900更新時刻: 2018-12-14 22:00:35 +0900