XPS studies on silicon carbonitride films prepared by sequential implantation of nitrogen and carbon into silicon
(シリコンへの窒素および炭素の連続的な打ち込みよって作成したシリコンカーボナイトライド薄膜のXPSによる研究)
NIMS著者
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作成時刻: 2016-05-24 11:50:24 +0900更新時刻: 2024-04-01 23:54:42 +0900