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著者名Mao Kanno, Ryuichi Arafune, Chun Liang Lin, Emi Minamitani, Maki Kawai, Noriaki Takagi.
タイトルElectronic decoupling by h-BN layer between silicene and Cu(111): A DFT-based analysis
掲載誌名New Journal of Physics 16 [10] 105019
ISSN: 13672630
発表年2014
言語English
ESIでのカテゴリPHYSICS
DOIhttps://doi.org/10.1088/1367-2630/16/10/105019
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