Thermal Stability of Cubic Boron Nitride Films Deposited by Chemical Vapor Deposition | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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Thermal Stability of Cubic Boron Nitride Films Deposited by Chemical Vapor Deposition
(化学気相成長法により作成した立方晶窒化ホウ素膜の熱安定性)

J. Yu, Z. Zheng, H. C. Ong, K. Y. Wong, S. Matsumoto, W. M. Lau.

The Journal of Physical Chemistry B 110 [42] 21073-21076. 2006.

https://doi.org/10.1021/jp0610766

NIMS著者

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作成時刻: 2016-05-24 15:08:01 +0900 更新時刻: 2026-11-02 04:20:51 +0900

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