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著者名T. Asano, Y. Tanaka, K. Tachikawa.
タイトルEffects of deposition parameters on the synthesis of Nb3Ge in the CVD process
掲載誌名Cryogenics 25 [9] 503-506
ISSN: 00112275
発表年1985
言語unknown
ESIでのカテゴリ
DOIhttps://doi.org/10.1016/0011-2275(85)90073-6
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