Microstructure and shape memory behavior of annealed Ti44.5Ni55.5−Cu (X= 15.3–32.8) thin films with low Ti content
(低Ti濃度のTi44.5Ni55.5-xCux(x=15.3-32.8)合金薄膜の微細組織と形状記憶特性)
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作成時刻: 2016-05-24 17:33:42 +0900更新時刻: 2024-04-02 03:58:19 +0900