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スパッタ膜Monみられる内部応力の緩和パターン―その核形成と成長
(STRESS RELAXATION PATTERN OBSERVED IN SPUTTERED Mo FILM)

大越恒雄, 小川恵一, 溝口正, 増本健.

NIMS著者


    Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


      作成時刻: 2022-09-05 10:25:07 +0900 更新時刻: 2022-09-05 10:25:07 +0900

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