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HAXPES study of CeO thin film–silicon oxide interface
(HAXPES study of CeOx thin film–silicon oxide interface)

M. Vorokhta, I. Matolínová, M. Dubau, S. Haviar, I. Khalakhan, K. Ševčíková, T. Mori, H. Yoshikawa, V. Matolín.
Applied Surface Science 303 46-53. 2014.
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2014.02.048

NIMS著者

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      作成時刻: 2016-05-24 17:20:48 +0900更新時刻: 2024-04-02 03:52:30 +0900

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