In-Situ Tem Observation of Structural Changes of Ni Disilicide Thin Films by Focused Ion Beam Lithography
(集束イオンビーム加工によるNiダイシリサイド薄膜の構造変化のTEMその場観察)
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2016-05-24 11:35:41 +0900 更新時刻: 2026-10-01 05:18:57 +0900