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水素原子処理シリコン結晶中の水素分子

深田直樹, 佐々木慎一, 村上浩一, 石岡邦江, 中村一隆, 北島正弘, 菊池純, 藤村修三, 羽田肇.
表面科学 43-48. 1997.

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    作成時刻: 2022-09-05 10:49:20 +0900更新時刻: 2022-09-05 10:49:20 +0900

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