HOME > 論文 > 書誌詳細Effect of gas adsorption on the segregation behavior of substrate Cu on Ti film(基板元素の薄膜上への偏析挙動に与えるガス吸着の影響)M. Yoshitake, K. Yoshihara. Applied Surface Science 100-101 203-206. 1996.https://doi.org/10.1016/0169-4332(96)00287-5 NIMS著者吉武 道子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2016-05-24 11:35:49 +0900更新時刻: 2024-04-01 18:08:03 +0900
