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Sub-10 nm crystalline silicon nanostructures by electron beam induced deposition lithography
(電子ビームのデポのリソグラフィーでシリコンのナノ構造 )

I Sychugov, Y Nakayama, K Mitsuishi.
Nanotechnology 21 [28] 285307. 2010.

NIMS著者


    Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


      作成時刻: 2016-05-24 16:07:53 +0900更新時刻: 2024-05-01 09:07:43 +0900

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