HOME > 論文 > 書誌詳細The formation of Er-oxide nanoclusters in SiO2 thin films with excess Si(過剰Siを含んだSiO2薄膜中における酸化Erナノクラスターの成長)Annett Thogersen, Jeyanthinath Mayandi, Terje Finstad, Arne Olsen, Spyros Diplas, Masanori Mitome, Yoshio Bando. Journal of Applied Physics 106 [1] 014305. 2009.https://doi.org/10.1063/1.3148266 NIMS著者三留 正則板東 義雄Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2016-05-24 15:51:45 +0900更新時刻: 2024-03-31 17:50:34 +0900