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著者名Michiko Yoshitake, Slavomír Nemšák, Tomáš Skála, Nataliya Tsud, Vladimír Matolín, Kevin C. Prince.
タイトルThe influence of Si in Ni on the interface modification and the band alignment between Ni and alumina
掲載誌名APPLIED SURFACE SCIENCE 442 164 169
発表年2018
言語English
DOI10.1016/j.apsusc.2018.02.091
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