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| 著者名 | J. W. Liu, M. Y. Liao, M. Imura, H. Oosato, E. Watanabe, A. Tanaka, H. Iwai, Y. Koide. |
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| タイトル | Interfacial band configuration and electrical properties of LaAlO3/Al2O3/hydrogenated-diamond metal-oxide-semiconductor field effect transistors |
| 掲載誌名 | Journal of Applied Physics 114 [8] 084108 ISSN: 00218979, 10897550 ESIでのカテゴリ: PHYSICS |
| 出版社 | AIP Publishing |
| 発表年 | 2013 |
| 言語 | English |
| DOI | https://doi.org/10.1063/1.4819108 |
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