Photocatalytic machining of organic molecular layer on a Si wafer surface by use of a porous TiO2 micro wire | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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Photocatalytic machining of organic molecular layer on a Si wafer surface by use of a porous TiO2 micro wire
(多孔質チタニアマイクロワイヤーを用いたSi基板上の有機分子層の光触媒機械加工)

Yoshiaki Sone, OGAKI, Takeshi, Tetsuo Kishi, Keishi Nishio, Mutsuyoshi Matsumoto, Atsuo Yasumori.

JOURNAL OF THE CERAMIC SOCIETY OF JAPAN 116 [2] 341-344. 2008.

NIMS著者

大垣武

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2016-05-24 15:35:31 +0900 更新時刻: 2018-12-15 00:52:15 +0900

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