QUANTUM CHEMICAL STUDY ON THE OXDATION PROCESS OF HYCLROGEN TERMINATED SI SURFACE.
(水素終端SI表面の酸化過程における量子化学計算)
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2022-09-05 10:52:45 +0900 更新時刻: 2022-09-05 10:52:45 +0900