Sputtering of Silicon Coatings by Low-Energy Hydrogen Ions

K.Sone; M.Saidoh; K.Nakamura; R.yamada; Y.Murakami; T.Shikama; M.Fukutomi; M.Okada; K. Sone; M. Saidoh; K. Nakamura; R. Yamada; Y. Murakami; T. Shikama; M. Fukutomi; M. Kitajima; M. Okada; K.Sone; M.Saidoh; K.Nakamura; R.yamada; Y.Murakami; T.Shikama; M.Fukutomi; M.Okada; K. Sone; M. Saidoh; K. Nakamura; R. Yamada; Y. Murakami; T. Shikama; M. Fukutomi; M. Kitajima; M. Okada

doi:10.1016/0022-3115(81)90153-7

(Sputtering of Silicon Coatings by Low-Energy Hydrogen Ions)

K.Sone, M.Saidoh, K.Nakamura, R.yamada, Y.Murakami, T.Shikama, M.Fukutomi, M.Okada, K. Sone, M. Saidoh, K. Nakamura, R. Yamada, Y. Murakami, T. Shikama, M. Fukutomi, M. Kitajima, M. Okada.

Journal of Nuclear Materials 98 [3] 270-278. 1981.

https://doi.org/10.1016/0022-3115(81)90153-7

NIMS author(s)

Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)

Created at: 2016-05-24 11:21:45 +0900Updated at: 2024-05-02 06:59:05 +0900