Oxidation of Silicon in rf Plasma Measured by a Rapid in-situ During-Process Ellipsometry.
(高周波プラズマ中のシリコンの酸化過程の高速その場偏光解析.)
NIMS著者
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作成時刻: 2022-11-15 00:38:57 +0900 更新時刻: 2022-11-15 00:38:57 +0900