Reduction of nonradiative recombination center for ZnO films grown under Zn-rich conditions by metal organic chemical vapor deposition | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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Reduction of nonradiative recombination center for ZnO films grown under Zn-rich conditions by metal organic chemical vapor deposition
(Znリッチ条件によるMOCVDで成長したＺｎＯ薄膜の非発光センターの低減)

Eiji Fujimoto, Kenji Watanabe, Yuji. Matsumoto, Hideomi Koinuma, Masatomo Sumiya.

Applied Physics Letters 97 [13] 131913. 2010.

https://doi.org/10.1063/1.3492855

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作成時刻: 2016-05-24 16:11:07 +0900更新時刻: 2024-03-31 18:22:41 +0900

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