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著者名Keiichi Akutsu, Hideki Kawakami, Mitsushi Suzuno, Takashi Yaguchi, Karolin Jiptner, Jun Chen, Takashi Sekiguchi, Teruhisa Ootsuka, Takashi Suemasu.
タイトルMinority-carrier diffusion length, minority-carrier lifetime, and photoresponsivity of β-FeSi2 layers grown by molecular-beam epitaxy
掲載誌名Journal of Applied Physics 109 12 123502
ISSN: 00218979 10897550
発表年2011
言語English
DOI10.1063/1.3596565
ESIでのカテゴリPHYSICS
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