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Si表面でのO2分子線散乱で生成脱離するSiOの振動回転分布
(Rovibrational State Distribution of SiO Desaled from a Silicon During O2 Molecular Beam Scatteing)

中村一隆, 中村一隆, 北島 正弘, 北島正弘.
表面科学 16 [9] 583-586. 1995.

NIMS著者


    Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


      作成時刻: 2016-05-24 11:35:47 +0900 更新時刻: 2018-12-14 22:18:47 +0900

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