HOME > 論文 > 書誌詳細Rearrangement of ferroelectric domain structure induced by chemical etching(化学エッチングによる強誘電体分域構造の再配列)M. Kitamura, S. Iwamoto, Y. Arakawa. Applied Physics Letters 87 [15] 151119. 2005.https://doi.org/10.1063/1.1993769 NIMS著者Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2016-05-24 14:48:28 +0900更新時刻: 2024-03-29 23:15:12 +0900
