publication_type	publication_year	number	author	title	event_name	doi	reported_at
Presentation	2023	1	大久保 勇男, 村田 正行, 大井 暁彦, Mariana S.L. Lima, 櫻井 岳暁, 相澤 俊, 森 孝雄		The 39th Annual International Conference on Thermoelectrics (ICT 2023)		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2023	2	大久保 勇男, 村田正行, 大井 暁彦, Mariana S. L. Lima, 櫻井岳暁, 相澤 俊, 森 孝雄	微細加工技術を用いた薄膜型熱電デバイスの開発	第70回 応用物理学会 春季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2021	1	澤田 朋実, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塚越 一仁		240th ECS Meeting / https://www.electrochem.org/240/		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2021	2	生田目 俊秀, 井上 万里, 前田 瑛里香, 女屋 崇, 廣瀨 雅史, 小林 陸, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塚越 一仁		21st International Conference on Atomic Layer Deposition		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2021	3	女屋崇, 生田目俊秀, 澤本直美, 大井暁彦, 池田直樹, 長田貴弘, 小椋厚志		AVS 21st International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2021) / https://ald2021.avs.org/		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2021	4	生田目 俊秀, 色川 芳宏, Akira Uedono, 大井 暁彦, 池田 直樹, 小出 康夫		INTERNATIONAL CONFERENCE ON PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS（THERMEC'2021)		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2021	5	前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 塩崎宏司, 清野肇, 池田 直樹		International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS (THERMEC'2021)		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2021	6	女屋崇, 生田目俊秀, 澤本直美, 大井暁彦, 池田直樹, 長田貴弘, 小椋厚志		MANA International Symposium 2021/https://www.nims.go.jp/mana/2021/index.html		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2020	1	小林 陸, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 小椋 厚志		33rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference/https://mnc2020.award-con.com/LOGIN.php		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2020	2	生田目 俊秀, 大石知司, 井上 万里, 高橋　誠, 伊藤和博, 池田 直樹, 大井 暁彦		PRime2020		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2020	3	小林 陸, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 小椋 厚志	Air及びN2雰囲気のバイアスストレスによるアモルファスCarbon-doped In2O3TFTのトランジスタ特性	第81回応用物理学会秋季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2020	4	前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塩崎宏司, 橋詰保, 清野肇	GaNパワーデバイス用HfAlOx、HfSiOx、AlSiOx、Al2O3及びHfO2 絶縁膜の特性比較	第81回応用物理学会秋季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2020	5	前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塩崎宏司, 清野肇	GaN/HfSiOx界面でSiO2及びHfO2初期成長層が電気特性へ及ぼす影響	第67回応用物理学会春季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2020	6	廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 池田 直樹, 色川 芳宏, 小出 康夫, 清野肇	PDA雰囲気ガスがn-β-Ga2O3/Al2O3/Pt MOSキャパシタの電気特性へ及ぼす影響	第67回応用物理学会春季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2020	7	小林 陸, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 小椋 厚志	NBS及びPBSによるアモルファスCarbon-doped In2O3TFTの信頼性特性	2020年第67回応用物理春季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2020	8	ノ ハイ ダン, チェン カイ, ドアン アン ツン, ハンデガード セレ オルヤン, ゴ ドゥック テイエン, ダオ デュイ タン, 池田 直樹, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭		The 13th MANA International Symposium 2020 jointly with ICYS		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2020	9	小林 陸, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 小椋 厚志		MANA INTERNATIONAL SYMPOSIUM 2020/https://www.nims.go.jp/mana/2020/		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2020	10	前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塩崎宏司, 清野肇	GaN/HfSiOxキャパシタの電気特性に対するHfSiOx絶縁膜の膜厚依存性	第25回電子デバイス界面テクノロジー研究会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2020	11	廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 池田 直樹, 色川 芳宏, 小出 康夫, 清野肇	Al2O3/β-Ga2O3スタック構造のPMA効果と界面特性の関係	電子デバイス界面テクノロジー研究会　ー材料・プロセス・デバイス特性の物理ー		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2020	12	廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 池田 直樹, 色川 芳宏, 小出 康夫, 清野肇	Al2O3/β-Ga2O3スタック構造のPMA効果と界面特性の関係	電子デバイス界面テクノロジー研究会　ー材料・プロセス・デバイス特性の物理ー		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2020	13	小林 陸, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 小椋 厚志	ALD法で作製したC-doped及びC-free In2O3膜を チャネルとした酸化物TFTの比較	"「電子デバイス界面テクノロジー研究会
－材料・プロセス・デバイス特性の物理－」（第25回）"		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	1	廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 池田 直樹, 色川 芳宏, 小出 康夫, 清野肇		2019 IWDTF		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	2	前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 堀江 智之, 池田 直樹, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 塩崎宏司, 清野肇	HfSiO x 絶縁膜 の GaN パワーデバイス における n GaN/HfSiO x 界面の構造解析	第2回結晶工学×ISYSE合同研究会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	3	小林 陸, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 小椋 厚志		236th ECS Meeting		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	4	ノ ハイ ダン, チェン カイ, ドアン アン ツン, ハンデガード セレ オルヤン, ダオ デュイ タン, ゴ ドゥック テイエン, 生田目 俊秀, 池田 直樹, 長尾 忠昭, 大井 暁彦		ICSFS19-The 19th International Conference on Solid Films and Surfaces 		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	5	前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 池田 直樹, 塩崎宏司, 清野肇	GaN/HfSiOx/PtキャパシタでGaN/HfSiOx界面が電気特性に及ぼす影響	第80回応用物理学会秋季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	6	ノ ハイ ダン, チェン カイ, ドアン アン ツン, ハンデガード セレ オルヤン, ゴ ドゥック テイエン, 池田 直樹, ダオ デュイ タン, 大井 暁彦, 長尾 忠昭, 生田目 俊秀		応用物理学会秋季学術講演会/JSAP Autumn Meeting 2019		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	7	廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 池田 直樹, 大井 暁彦, 色川 芳宏, 岩井 秀夫, 安福 秀幸, 川田 哲, 高橋誠, 伊藤和博, 小出 康夫, 清野肇	Pt/Al2O3/β-Ga2O3 MOSキャパシタの熱処理温度による電気特性の変化	第80回応用物理学会秋季学術講演		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	8	生田目 俊秀, 大石 知司, 井上 万里, 高橋 誠, 伊藤 和博, 池田 直樹, 大井 暁彦	Al2O3/TiO2二層構造を用いたフレキシブル抵抗変化型メモリの抵抗スイッチング特性	2019年日本金属学会秋期講演大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	9	前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, Makoto Takahashi, 池田 直樹, Kazuhiro Ito, 清野　肇		ALD2019		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	10	前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, Makoto Takahashi, Kazuhiro Ito, 清野　肇		ALD2019		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	11	廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 池田 直樹, 色川 芳宏, 小出 康夫, 清野肇	Influence of surface cleaning process on initial growth of ALD-Al2O3 and electrical properties of Pt/Al2O3/β-Ga2O3 MOS capacitors	ALD2019		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	12	廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 弓削 雅津也, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 池田 直樹, 色川 芳宏, 岩井 秀夫, 安福 秀幸, 川田 哲, 小出 康夫		INFOS 2019		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	13	女屋 崇, 澤本 直美, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋 厚志		21th Conference of “Insulating Films on Semiconductors”		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	14	前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 弓削 雅津也, 大井 暁彦, 清野肇, 池田 直樹, 塩崎宏司		INFOS 2019		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	15	弓削 雅津也, 生田目 俊秀, 色川 芳宏, 大井 暁彦, 池田 直樹, 上殿 明良, サン リウエン, 小出 康夫, 大石 知司	Influence of post-deposition annealing on interface characteristics at Al2O3/n-GaN	"	Electron Devices Technology and Manufacturing Conference"		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	16	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋 厚志		IEEE EDTM 2019		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	17	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本 直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋 厚志	300 °C低温形成したHfxZr1−xO2薄膜の強誘電性	第66回応用物理学会春季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	18	前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 弓削 雅津也, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塩崎宏司, 清野肇	Hfリッチな組成のHfSiOxゲート絶縁膜を用いたn-GaN MOSキャパシタの特性	第24回電子デバイス界面テクノロジー研究会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	19	弓削 雅津也, 生田目 俊秀, 色川 芳宏, 大井 暁彦, 池田 直樹, 上殿明殿, サン リウエン, 小出 康夫, 大石知司	"	Al2O3/n-GaN界面での伝導帯/価電子帯近傍の界面準位密度に関する研究"	"	膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会"		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	20	小林 陸, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 木津 たきお, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 小椋 厚志	低温度ALD法を用いてAl2O3及びSiO2下地基板へ形成したIn2O3膜の特性	電子デバイス界面テクノロジー研究会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2019	21	廣瀨雅史, 生田目俊秀, 大井暁彦, 前田瑛里香, 弓削雅津也, 池田直樹, 色川芳宏, 小出康夫	Al2O3絶縁膜を用いたn-GaN及びn-β-Ga2O3キャパシタの電気特性の比較	第24回電子デバイス界面テクノロジー研究会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	1	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋厚志	Improvement of Ferroelectricity of HfxZr1−xO2 Thin Films by New ZrO2 Nucleation Technique	49th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	2	色川 芳宏, 三石 和貴, 鈴木 拓, 弓削 雅津也, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 大西 剛, 木本 浩司, 小出 康夫	Comprehensive Study of Native Oxides on GaN(0001)	International Workshop on Nitride Semiconductors 2018		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	3	エルアミル アアハメド モハメド エルサイド アハメド, 大澤 健男, 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 和田 芳樹, 中村 優, 島村 清史, 大橋 直樹		JCCG47		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	4	生田目 俊秀, 井上 万里, 前田瑛里香, 弓削雅津也, 廣瀨雅文, Makoto Takahashi, Kazuhiro Ito, 池田 直樹, Tomoji Ohishi, 大井 暁彦	Growth mechanism and characteristics of Hf-Si-O film by PE-ALD using TDMAS and TDMAH precursors and oxygen plasma gas	AVS 65th International symposium & Exhibition		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	5	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋厚志	ゲートバイアスストレスにおけるAl2O3パッシベーション層を用いたAl2O3/In-SI-O-C薄膜トランジスタの信頼性	AiMES 2018		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	6	女屋崇, 生田目俊秀, 澤本直美, 栗島一徳, 大井暁彦, 池田直樹, 長田貴弘, 小椋厚志		AiMES 2018		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	7	色川 芳宏, 鈴木 拓, 弓削 雅津也, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 木本 浩司, 大西 剛, 三石 和貴, 小出 康夫	GaN(0001)自然酸化膜の複合的評価	第79回応用物理学会秋季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	8	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋厚志	ナノZrO2核生成層を用いた強誘電体HfxZr1−xO2薄膜の作製技術	第79回応用物理学会秋季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	9	廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 弓削 雅津也, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 色川 芳宏, 小出 康夫, 池田 直樹	表面処理方法がβ-Ga2O3/Al2O3/Pt MOSキャパシタの電気特性へ及ぼす影響	第79回応用物理学会秋季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	10	廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 弓削 雅津也, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 色川 芳宏, 小出 康夫, 池田 直樹	表面処理方法がβ-Ga2O3/Al2O3/Pt MOSキャパシタの電気特性へ及ぼす影響	第79回応用物理学会秋季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	11	前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 弓削 雅津也, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塩崎宏司, 大石知司	HfSiOx絶縁膜を用いたn-GaN MOSキャパシタの高耐圧特性	第79回応用物理学会秋季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	12	生田目 俊秀, 女屋 崇, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 小椋厚志	ZrO2シード層による強誘電体HfxZr1−xO2薄膜形成	2018年 第79回応用物理学会秋季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	13	弓削 雅津也, 生田目 俊秀, 色川 芳宏, 大井 暁彦, 池田 直樹, 上殿 明良, サン リウエン, 小出 康夫, 大石 知司	光支援C-V法を用いたAl2O3/n-GaN界面ディープトラップの分析	Solid State Devices and Materials		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	14	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋厚志	Impact of Top-ZrO2 Nucleation Layer on Ferroelectricity of HfxZr1−xO2 Thin Films for Ferroelectric Field Effect Transistor Application	SSDM2018		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	15	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志	Effect of ZrO2 capping-layer on ferroelectricity of HfxZr1−xO2 thin films by ALD using Hf/Zr cocktail precursor	18th International Conference on Atomic Layer Deposition		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	16	生田目 俊秀, 井上 万里, 高橋誠, 伊藤和博, 池田 直樹, 大井 暁彦	Different growth mechanism of SiO2 layer on various High-k films by PE-ALD using Tris(dimethylamino)silane and oxygen plasma	18th International Conference on Atomic Layer Deposition		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	17	生田目 俊秀, 色川 芳宏, 大井 暁彦, 池田 直樹, サン リウエン, 小出 康夫, 大石知司	Al2O3/n-GaNキャパシタの自然酸化膜層が電気特性へ及ぼす影響	シリコン材料・デバイス研究会 (SDM)		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	18	エルアミル アアハメド モハメド エルサイド アハメド, 大澤 健男, 大井 暁彦, 島村 清史, 大橋 直樹	Optimization and reliability of Schottky and Ohmic contacts for Mg2Si-based	IFAAP2018		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	19	弓削 雅津也, 色川 芳宏, 大井 暁彦, 池田 直樹, サン リウエン, 大石知司, 小出 康夫	Role of a native oxide interlayer on electrical characteristics of Al2O3/n-GaN capacitors	Joint ISTDM/ISCI 2018 Conference		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	20	生田目 俊秀, 木村将之, 弓削 雅津也, 井上 万里, 池田 直樹, 大石知司, 大井 暁彦	原子層堆積法の成長条件がAl2O3膜の特性へ及ぼす影響	2018春期（第162回）日本金属学会講演大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	21	弓削 雅津也, 生田目 俊秀, 色川 芳宏, 大井 暁彦, 池田 直樹, サン リウエン, 知京 豊裕, 小出 康夫, 大石 知司	Al2O3/n-GaNキャパシタの酸化ガリウム界面層が電気特性へ及ぼす影響	第65回応用物理学会春季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	22	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志	上下ZrO2核生成層によるHfxZr1−xO2薄膜の強誘電性の改善	第65回応用物理学会春季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	23	エルアミル アアハメド モハメド エルサイド アハメド, 大澤 健男, 和田 芳樹, 大井 暁彦, 山本 悟, 島村 清史, 大橋 直樹	Ecofriendly photodiode-based-Mg2Si for SWIR sensation	日本セラミックス協会2018年年会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	24	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志	上下ZrO2核生成層を用いたHfxZr1−xO2薄膜の強誘電性の向上	第23回電子デバイス界面テクノロジー研究会―材料・プロセス・デバイ		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2018	25	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 木津 たきお, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志	酸化物薄膜トランジスターに対する信頼性へのAl2O3/In0.76Si0.24O0.99C0.01界面の影響	PCSI-45		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2017	1	色川 芳宏, 鈴木 拓, 弓削 雅津也, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 木本 浩司, 大西 剛, 三石 和貴, 小出 康夫	Surface analysis of native oxides on GaN(0001): An LEIS and RHEED study	第18回「イオンビームによる表面・界面解析」特別研究会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2017	2	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志	Improvement in ferroelectricity of HfxZr1-xO2 thin films using double nanocrystal ZrO2 layers	2017 IWDTF		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2017	3	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志	ZrO2シード層がHfxZr1-xO2薄膜の強誘電性へ及ぼす効果	シリコン材料・デバイス研究会-プロセス科学と新プロセス技術-		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2017	4	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 木津 たきお, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志	High-k/In1-xSixO1-yCyチャネル界面がトランジスタ特性に及ぼす影響	2017年 第78回応用物理学会秋季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2017	5	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志	ナノ結晶ZrO2シード層を用いた厚膜HfxZr1-xO2の強誘電性	第78回応用物理学会秋季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2017	6	女屋 崇, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志	Effect of ZrO2-seed-layer on ferroelectricity of HfxZr1-xO2 thin film for memory applications	XXVI International Materials Research Congress		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2017	7	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 木津 たきお, 塚越 一仁, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志	CドープIn-Si-O薄膜トランジスタの負バイアス不安定性	ULSIC vs TFT 2017		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2017	8	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 木津 たきお, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志	ホールトラップがCドープIn-Si-Oのトランジスタ特性へ及ぼす影響	第64回 応用物理学会春季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2017	9	女屋 崇, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志	ALD-ZrO2シード層によるHfxZr1-xO2膜の強誘電性の改良	第64回応用物理学会春季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2017	10	弓削 雅津也, 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 大石知司	Pt触媒効果により酸素欠陥及び酸素を導入したAl2O3膜の特性	APS March Meeting		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2017	11	女屋 崇, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志	High-kシード層がHfZrO2膜の強誘電性へ及ぼす影響	電子デバイス界面テクノロジー研究会 材料・プロセス・デバイス特性		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2017	12	弓削 雅津也, 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 大石知司	Pt触媒効果を用いたALD-Al2O3膜の熱処理雰囲気とVfbシフトの関係	電子デバイス界面テクノロジー研究会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2017	13	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 木津 たきお, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志	酸化物薄膜トランジスタにおけるCドープIn-Si-OとIn-Si-Oチャネルの信頼性の比較	第22回電子デバイス界面テクノロジー研究会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2016	1	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志	Role of Interlayer in ZrO2/high-k/ZrO2 Insulating Multilayer on Electrical Properties for DRAM Capacitor	PRiME 2016 (2016年電気化学会(ECSJ)秋季大会)		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2016	2	生田目 俊秀, 伊藤　和博, 高橋　誠, 弓削　雅津也, 女屋 崇, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 大石　知司, 小椋　厚志, 知京 豊裕	Al2O3/ZrO2/Al2O3チャージトラップキャパシタにおける電子トラップのメカニズム	日本金属学会2016年秋期大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2016	3	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志	ZrO2/high-k/ZrO2多層絶縁膜を用いたDRAMキャパシタにおけるhigh-k層間絶縁層の役割	第77回応用物理学会秋季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2016	4	生田目 俊秀, 女屋 崇, 高橋誠, 伊藤和博, 大井 暁彦, 栗島 一徳, 小椋厚志, 知京 豊裕	Comparison of tapping mechanism of ZrO2 and (Ta/Nb)x charge trapping layers for charge trap capacitor with high-k multilayers	16th International Conference on Atomic Layer Deposition		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2016	5	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 澤本直美, 知京 豊裕, 小椋厚志	Improvement of leakage current properties of ZrO2/(Ta/Nb)Ox-Al2O3/ZrO2 nano-laminate insulating stacks for DRAM capacitor	16th International Conference on Atomic Layer Deposition		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2016	6	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志	ZrO2/Al2O3/ZrO2多層を用いたDRAMキャパシタにおけるAl2O3層が電気特性に及ぼす効果	シリコン材料・デバイス研究会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2016	7	生田目 俊秀, 山本 逸平, 澤田 朋実, 大井 暁彦, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋　厚志, 大石　知司	Electrical properties of anatase-TiO2 films due to the oxygen vacancy introduced by oxidation of trimethylaluminium	2016 MRS Spring Meeting		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2016	8	澤田 朋実, 生田目 俊秀, ダオ デュイ タン, 山本 逸平, 栗島 一徳, 女屋 崇, 大井 暁彦, 大石知司, 小椋厚志, 長尾 忠昭	TiO2/Al2O3/TiO2キャパシタにおけるPE-ALD RuO2とTiN電極の耐圧特性の比較	日本金属学会 2016年春期（第158回）講演大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2016	9	山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司	XPSを用いたトリメチルアルミニウムガスによるTiO2膜からの自己制御型の酸素脱離メカニズムの解析	日本金属学会 2016年春季講演大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2016	10	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志	ZrO2/Al2O3/ZrO2スタック構造を用いたDRAMキャパシタにおける リーク電流特性の改善	第63回応用物理学会春季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2016	11	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志	酸化物薄膜トランジスタへ向けたCドープしたIn-W-Oチャネル材料の特性	第63回 応用物理学会春季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2016	12	山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司	TMA原料とTiO2膜の酸素の自己制御型反応によるアナターゼTiO2膜への酸素欠損の形成のメカニズム	電子デバイス界面テクノロジー研究会（第21回）		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2016	13	女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志	ZrO2/Al2O3/ZrO2スタック構造を用いたDRAMキャパシタにおけるAl2O3及びZrO2膜厚がリーク電流特性へ及ぼす影響	電子デバイス界面テクノロジー研究会−材料・プロセス・デバイス特性		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2016	14	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志	CドープIn-Si-Oチャネルの酸化物TFTのバイアスストレス特性の改善	電子デバイス界面テクノロジー研究会（第21回）		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	1	生田目 俊秀, 大井 暁彦	金属/酸化物接合界面のナノオーダーレベル構造解析	大阪大学接合科学研究所東京セミナー、アディティブ・マニュファクチ		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	2	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志	酸化物TFTのCドープInSiOチャネル材料の研究	46th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	3	山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司	Self-limiting Oxygen Vacancy formation into Anatase-TiO2 Films by Trimethylaluminium	46th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	4	山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司	Oxygen Vacancy formation into Anatase-TiO2 Films by Oxidation of Trimethylaluminium	IWDTF 2015		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	5	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志	CドープしたInSiOチャネルによるバイアスストレス特性の改善	2015 IWDTF		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	6	澤田 朋実, 生田目 俊秀, 山本 逸平, 栗島 一徳, 女屋　崇, 大井 暁彦, 伊藤　和博, 高橋　誠, 小濱　和之, 大石知司, 小椋厚志, 長尾 忠昭	PE-ALD法により作製したRuO2を下部電極に用いたTiO2/Al2O3/TiO2キャパシターの特性	IWDTF 2015		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	7	澤田 朋実, 生田目 俊秀, ダオ デュイ タン, 山本 逸平, 栗島 一徳, 女屋崇, 大井 暁彦, 大石知司, 小椋厚志, 長尾 忠昭	TiO2/Al2O3/TiO2スタック絶縁膜を用いたMIMキャパシタの電気特性に対するAl2O3膜厚の影響	日本金属学会 2015年秋期(第157回)講演大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	8	山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司	TMA原料によるanatase-TiO2膜への酸素欠損導入のメカニズムの解明	日本金属学会　2015年秋季講演大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	9	川喜多 仁, 知京 豊裕, 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 大木 知子	ガルバニ作用に基づく結露応答センサ	2015年電気化学秋季大会 ・第59回化学センサ研究発表会 		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	10	澤田 朋実, 生田目 俊秀, ダオ デュイ タン, 山本 逸平, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 大石知司, 小椋厚志, 長尾 忠昭	PE-ALD法による、SiO2, Al2O3 ,そしてTiO2基板上でのRuO2膜の成長	ALD2015 15th International Conference on Atomic Layer Deposition		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	11	生田目 俊秀, 山本 逸平, 澤田 朋実, 大井 暁彦, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 小椋厚志, 大石知司, 知京 豊裕	Control of oxygen vacancy in TiO2 films introduced by ALD using TMA precursor	15th International Conference on Atomic Layer Deposition		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	12	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志	PE-ALD法で作製した極薄膜Al2O3ゲート絶縁膜を用いたGIZO TFTの電気特性	シリコン材料・デバイス研究会 (SDM) 		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	13	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志	将来のTFTへおける炭素ドープしたIn-Si-Oチャネルのインパクト	227th ECS Meeting		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	14	澤田 朋実, 生田目 俊秀, 石井 智, ダオ デュイ タン, 山本 逸平, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 大石知司, 小椋厚志, 長尾 忠昭	反応性スパッタリング法によるMoドープした酸化スズ膜の形成	金属学会 2015年春期（第156回）講演大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	15	山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司	TMA原料によるAnatase-TiO2膜への酸素欠損の導入とその電気特性	日本金属学会　2015春期大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	16	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志	2元スパッタリング法で作製したInSiO系チャネル材料の電気特性	2015年 第62回応用物理学会春季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	17	大井 暁彦, 生田目 俊秀, 伊藤 和博, 高橋 誠, 知京 豊裕	Al2O3/(Ta/Nb)Ox/Al2O3チャージトラップキャパシタにおける(Ta/Nb)Ox/Al2O3ブロッキング層の界面がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響	ゲートスタック研究会 材料・プロセス・評価の物理 第20回		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	18	山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司	TMA/H2O-ALD法によるRutile-TiO2膜へ酸素欠損の形成による電気特性	第20回ゲート・スタック研究会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2015	19	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志	CドープしたInSiOチャネル材料の電気特性及び物性に及ぼすCの影響	ゲートスタック研究会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	1	生田目 俊秀, 大井 暁彦, 伊藤和博, 高橋誠, 知京 豊裕		Visual-JW 2014		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	2	生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石　知司, 知京 豊裕		AVS 61st International Symposium & Exhibition		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	3	ダオ デュイ タン, チェン カイ, 石井 智, ガンダム ラクシミナラヤナ, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭	Large Area, Aluminum Metamaterial Perfect Absorbers for Tunable Thermal Radiation 	The 7th International Symposium on Surface Science, 2014		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	4	澤田 朋実, 生田目 俊秀, ダオ デュイ タン, 山本 逸平, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 大石知司, 小椋厚志, 長尾 忠昭	RuO2シードを用いたPE-ALD法で作製したRuO2膜の特性	金属学会　2014年秋期（第155回）講演大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	5	山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司	TMA原料によるRutile-TiO2膜への酸素欠損の導入とその電気特性	日本金属学会　2014年秋季講演大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	6	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志	炭素添加したInSiOチャネル材料の特性	応用物理学会秋季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	7	ダオ デュイ タン, チェン カイ, 石井 智, ガンダム ラクシミナラヤナ, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭	Large Area, Aluminum Metal-Insulator-Metal Infrared Perfect Absorber	The 75th JSAP Autumn Meeting, (JSAP-OSA Joint Symposium) 2014		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	8	生田目 俊秀, 大井 暁彦, 伊藤和博, 高橋誠, 知京 豊裕	ALD法で作製したAl2O3/(Ta/Nb)Ox/Al2O3多層構造のチャージトラップフラッシュメモリーの評価	平成26年度6月度シリコン材料デバイス研究会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	9	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 清水 麻希, 相川 慎也, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志	PE-ALD法で作製したAl2O3絶縁膜を用いたIGZO TFTの電気特性への影響	14th International Conference on Atomic Layer Deposition		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	10	生田目 俊秀, 大井 暁彦, 伊藤和博, 高橋誠, 知京 豊裕		225th ECS Meeting		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	11	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 清水 麻希, 相川 慎也, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志		225th ECS Meeting		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	12	生田目 俊秀, Katareeya Taweesup, 高橋誠, 伊藤和博, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司	有機EL用陽極としての極薄膜RuO2膜の特性	日本金属学会2014年春期(第154回)講演大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	13	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 清水 麻希, 相川 慎也, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志	PE-ALD法で作製したAl2O3絶縁膜を用いたIGZO-TFTの電気特性	応用物理学会春季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	14	栗島 一徳, 生田目 俊秀, 清水 麻希, 相川 慎也, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志	PE-ALD法で作製したAl2O3絶縁膜を用いたIGZO-TFTの電気特性の変化	ゲートスタック研究会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2014	15	山本逸平, 生田目 俊秀, Katareeya Taweesup, 高橋誠, 伊藤和博, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司	極薄膜RuO2膜の実効仕事関数	第19回ゲートスタック研究会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2013	1	アブデラリーム アブデラジム アブデルラテフ シーマ, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 谷口 彰良		第35回日本バイオマテリアル学会大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2013	2	生田目 俊秀, 山田 博之, 木村 将之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕	ゲートラストhigh-k CMOSﾌﾟﾛｾｽにおけるゲート絶縁膜としてのALD-(Ta/Nb)ON膜の開発	13th International Conference on Atomic Layer Deposition		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2013	3	生田目 俊秀, 木村 将之, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕	メタル/High-kトランジスタにおけるゲート絶縁膜としてのALD-TiO2膜	NIMS Conference 2013		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2013	4	木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕	Plasma-Enhanced ALD法で作製したＡｌ２Ｏ３膜の特性	NIMS Conference 2013		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2013	5	木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕	ALD法で作製したアナターゼ型TiO2膜の電気特性	NIMS Conference 2013		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2013	6	木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 成島 利弘, 知京 豊裕, 大石 知司	低温度作製したアナターゼ型TiO2膜の電気特性	2013年　第60回応用物理学会春季学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2013	7	木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 成島 利弘, 伊藤和博, 高橋誠, 知京 豊裕, 大石知司	Anatase/Rutile型TiO2膜の酸素移動とフラットバンド電圧シフトの関係	日本金属学会2013年春期(第152回)講演大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2013	8	山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 成島 利弘, 知京 豊裕, 大石知司	ALD法で作製したTa-Nb-O-N絶縁膜の電気特性	日本金属学会2013年度春期講演大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2012	1	知京 豊裕, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 長田 貴弘, 吉武 道子, 陳 君, 関口 隆史, 大毛利 健治		ISAEM-2012 -AMDI-3		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2012	2	木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司	低温作製したアナターゼ構造のＴｉＯ2膜の電気特性	2012 International Conference on Solid State Devices and Materia		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2012	3	山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司	低温作製したルチル構造のTi1-X(Nb/Ta)XO絶縁膜の電気特性	日本金属学会2012年秋期（第151回）大会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2012	4	生田目 俊秀, 木村 将之, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕	High-k/SiO2スタック構造におけるHigh-k層の酸素拡散がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響	2012年 秋季 第73回応用物理学会学術講演会		2024-04-25 07:37:39 +0900
Presentation	2012	5	生田目 俊秀, 大井 暁彦, 知京 豊裕	(TaC)1-xAlx/High-kスタックにおけるHigh-k層の酸素及びAl拡散がVfbシフトへ果たす役割	2012 Tsukuba Nanotechnology Symposium TNS		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2012	6	生田目 俊秀, 大井 暁彦, 知京 豊裕	先端CMOS向けメタル/High-kゲートスタック技術	第76回半導体・集積回路技術シンポジウム		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2012	7	木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 成島 利弘, 知京 豊裕, 大石知司	(TaC)1-xAlx/HfO2/SiO2ゲートスタックで熱処理温度に対するAl原子の評価	シリコン材料・デバイス(SDM)研究会		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2012	8	生田目 俊秀, 木村 将之, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕	high-k CMOSへ向けてPE-ALD法で作製したAl2O3, TiO2及びAlTiOx膜の電気特性	12th International Conference on Atomic Layer Deposition		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2012	9	山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕	酸化還元熱処理がITO/HfO2 MOSキャパシタのフラットバンド電圧に及ぼす影響	The Eighth International Nanotechnology Conference on Communicat		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2012	10	木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司	(TaC)1-xAlx/HfO2 MOSキャパシタでVfbシフトへ及ぼすAl原子の役割	The Eighth International Nanotechnology Conference on Communicat		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2012	11	木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司	Plasma Enhanced ALD法によるhigh-k絶縁膜の低温度作製	日本金属学会2012年春期(第150回)大会		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2012	12	山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司	Ti1-X(Nb/Ta)XO2透明導電膜のNb/Taアロイが光学・電気特性に及ぼす影響	日本金属学会2012年春期(第150回)大会		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2012	13	山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司	酸化還元熱処理によるITO/HfO2 キャパシタのVfbシフトとITO膜の物性との関係	ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第17回)		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2012	14	木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司	(TaC)1-xAlx/HfO2ゲートスタックでVfbシフトへ及ぼすAl原子の役割	ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―（第17回）		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2011	1	山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司	ITO電極の酸素がHfO2 MOSキャパシタのフラットバンド電圧へ及ぼす影響	日本金属学会2011年秋期（第149回）大会		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2011	2	木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司	(TaC)1-xAlxゲート電極のAl原子によるフラットバンド電圧の制御	日本金属学会2011年秋季（第149回）大会		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2011	3	生田目 俊秀, 山田 博之, 木村 将之, 大石知司, 大井 暁彦, 知京 豊裕	同位体18Oを用いて求められたIn0.9Sn0.1O膜の酸素拡散係数	日本金属学会2011年秋期（第149回）大会		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2011	4	山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕	酸化還元熱処理がITO/HfO2 MOSキャパシタのフラットバンド電圧に及ぼす影響	The 3ed NIMS(MANA)- Waseda International Symposium		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2011	5	木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司	HfO2ゲートスタックにおける(TaC)1-xAlx電極のAl原子がVfbに果たす役割 	The 3rd NIMS(MANA)- Waseda International Symposium		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2011	6	木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石　知司	HfO2ゲートスタックにおける(TaC)1-xAlx電極のAl原子がVfbに果たす役割	2011 SSDM		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2011	7	原田 善之, 大井 暁彦, 児子 精祐, 加藤 誠一, 北澤 英明, 生田目 俊秀, 木戸 義勇	酸化アルミニウム系ReRAMデバイスの作製２	第72回応用物理学会学術講演会		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2011	8	生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石 知司	ITO/HfO2 MOSキャパシタで、酸化・還元熱処理がVfbシフトへ及ぼす影響	シリコン材料・デバイス研究会		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2011	9	生田目 俊秀, 木村 将之, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕		6th Int. Symp. on Control of Semiconductor Interface		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2011	10	生田目 俊秀, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 山田 博之, 木村 将之, 大石知司	High-k酸化膜の酸素拡散とフラットバンド電圧シフトの関係	日本金属学会　2011年春期大会		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2010	1	生田目 俊秀, 大井 暁彦, 知京 豊裕	High-k/SiO2酸化物のヘテロ界面がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響	日本金属学会　2010年秋期大会		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2010	2	生田目 俊秀, 大井 暁彦, 知京 豊裕	ナノエレクトロニクスへ向けてイオン性/共有結合性酸化物のヘテロ界面	The Sixth Int. Nanotech. Conf. on Commun. and Cooperation INC6		2024-04-25 07:37:40 +0900
Presentation	2010	3	生田目 俊秀, 原 眞一, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 松木武雄, 由上二郎	HfO2ゲート絶縁膜中の酸素がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響	日本金属学会2010年度春期大会		2024-04-25 07:37:40 +0900