publication_type publication_year number author title event_name doi reported_at Presentation 2024 1 女屋 崇, 生田目 俊秀, 長田 貴弘, 山下 良之, 塚越 一仁, 喜多 浩之 強誘電体HfxZr1−xO2/TiNの界面反応に起因する 分極疲労抑制メカニズムに関する考察 第29回 電子デバイス界面テクノロジー研究会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2024 2 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 色川 芳宏, 宮本 真奈美, 三浦 博美, 小出 康夫, 塚越 一仁 SiO2ダミープロセスを用いたc及びm面のGaN/Al2O3/PtキャパシタのPBS特性の改善 第29回 電子デバイス界面テクノロジー研究会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 1 女屋 崇, 生田目 俊秀, 長田 貴弘, 山下 良之, 塚越 一仁, Y. Morita, H. Ota, S. Migita, K. Kita 54th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 2 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 色川 芳宏, 宮本 真奈美, 三浦 博美, 小出 康夫, 塚越 一仁 54th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 3 生田目 俊秀 原子層堆積技術がリードする電子デバイス 日本電子材料技術協会　2023年第60回秋期講演大会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 4 Takashi Onaya, 生田目 俊秀, 塚越 一仁, Koji Kita 36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2023) 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 5 女屋 崇, 生田目 俊秀, 塚越 一仁, Koji Kita 36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2023) 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 6 生田目 俊秀, 色川 芳宏, 澤田 朋実, 宮本 真奈美, 三浦 博美, 小出 康夫, 塚越 一仁 2023 International Workshop on Dielectric Thin Films For Future Electron Devices 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 7 女屋 崇, 長田 貴弘, 生田目 俊秀, 山下 良之, 塚越 一仁, Koji Kita 2023 International Workshop on Dielectric Thin Films For Future Electron Devices 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 8 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 色川 芳宏, 小出 康夫, 塚越 一仁 244th ECS Meeting 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 9 生田目 俊秀, 小林 陸, 塚越 一仁 原子層堆積法で作製したInOxチャネルを用いた 酸化物トランジスタの特性 第87回半導体・集積回路技術シンポジウム 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 10 Makoto Mizui, Nobutaka Takahashi, Fumikazu Mizutani, 生田目 俊秀 ALD2023 (AVS 23rd International Conference on Atomic Layer Deposition) 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 11 澤田 朋実, 生田目 俊秀, 高橋 誠, 伊藤 和博, 色川 芳宏, 小出 康夫, 塚越 一仁 THERMEC 2023 International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials Processing, Fabrication, Properties, Applications 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 12 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 色川 芳宏, 安福 秀幸, 西尾 満章, 川田 哲, 小出 康夫, 塚越 一仁 THERMEC 2023 International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced MaterialsProcessing, Fabrication, Properties, Applications 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 13 女屋 崇, 生田目 俊秀, 長田 貴弘, 塚越 一仁, J. Kim, C.-Y. Nam, E. H. R. Tsai, K. Kita INFOS2023 23rd CONFERENCE ON INSULATING FILMS ON SEMICONDUCTORS 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 14 生田目 俊秀, 小林 陸, 塚越 一仁 2023 International Conference on Semiconductor Technology for Ultra Large Scale Integrated Circuits and Thin Film Transistors 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 15 女屋 崇, 長田 貴弘, 生田目 俊秀, 山下 良之, 塚越 一仁, 森田 行則, 太田 裕之, 右田 真司, 喜多 浩之 分極疲労時の強誘電体HfxZr1−xO2/TiN界面反応に起因した酸素欠損生成の起源 2023年　第70回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 16 生田目 俊秀 酸化物半導体デバイスにおける原子層堆積技術の最前線 2023年　第70回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 17 武田 大樹, 女屋 崇, 生田目 俊秀, 喜多 浩之 界面形成手法によるSiO2/β-Ga2O3(001)バンドアライメントの違いの考察 2023年　第70回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 18 女屋 崇, 生田目 俊秀, 森田 行則, 太田 裕之, 右田 真司, 喜多 浩之, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 松川 貴 TiN下部電極の表面酸化による強誘電体TiN/HfxZr1−xO2/TiNキャパシタの分極疲労の抑制 第28回電子デバイス界面テクノロジー研究会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2023 19 澤田 朋実, 生田目 俊秀, 高橋 誠, 伊藤 和博, 女屋 崇, 色川 芳宏, 小出 康夫, 塚越 一仁 GaN(0001)基板上でのアモルファスGa2O3膜の熱処理による高配向結晶成長 第28回 電子デバイス界面テクノロジー研究会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2022 1 Fumikazu Mizutani, Makoto Mizui, Nobutaka Takahashi, 井上 万里, 生田目 俊秀 MNC 2022, 35th International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2022 2 女屋 崇, 生田目 俊秀, Yukinori Morita, Hiroyuki Ota, Shinji Migita, Koji Kita, 長田 貴弘, 塚越 一仁, Takashi Matsukawa Ferroelectric HfxZr1−xO2-based capacitors with controlled-oxidation surface of TiN bottom-electrode MNC 2022, 35th International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2022 3 生田目 俊秀 Study of gate insulator for GaN power device using atomic layer deposition MNC 2022, 35th International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2022 4 澤田 朋実, 生田目 俊秀, Makoto Takahashi, Kazuhiro Ito, 女屋 崇, 色川 芳宏, 小出 康夫, 塚越 一仁 MNC2022, 35th International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2022 5 生田目 俊秀, 澤田 朋実, Makoto Takahashi, Kazuhiro Ito, 女屋 崇, 色川 芳宏, 小出 康夫, 塚越 一仁 Visual-JW 2022 & DEJI2MA-2 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2022 6 女屋 崇, 生田目 俊秀, 長田 貴弘, 上田 茂典, Y. C. Jung, H. Hernandez-Arriaga, J. Mohan, J. Kim, C.-Y. Nam, E. H. R. Tsai, 喜多 浩之, 右田 真司, 太田 裕之, 森田 行則 異なる酸化剤を用いた原子層堆積法により作製した 強誘電体HfxZr1−xO2/TiNの構造評価 2022年　第83回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2022 7 水谷 文一, 水井 誠, 高橋 伸尚, 井上 万里, 生田目 俊秀 新規液体原料（Zn(Cppm)2）によるZnO薄膜の原子層堆積 2022年　第83回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2022 8 小出 康夫, 生田目 俊秀, 色川 芳宏, 三石 和貴 19th International Conference on Defects - Recognition, Imaging and Physics in Semiconductors: DRIP XIX 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2022 9 女屋 崇, 生田目 俊秀, 長田 貴弘, 上田 茂典, Yong Chan Jung, Heber Hernandez-Arriaga, Jaidah Mohan, Jiyoung Kim, Chang-Yong Nam, Esther H. R. Tsai, 太田 裕之, 森田 行則 強誘電性の向上へ向けたTiN/HfxZr1−xO2界面のTiOxNy層の重要性 第27回 電子デバイス界面テクノロジー研究会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 1 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 井上 万里, 廣瀨 雅史, Ryota Ochi, 澤田 朋実, 色川 芳宏, Tamotsu Hashizume, Koji Shiozaki, Takashi Onaya, 塚越 一仁, 小出 康夫 240th ECS Meeting / https://www.electrochem.org/240/ 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 2 澤田 朋実, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塚越 一仁 240th ECS Meeting / https://www.electrochem.org/240/ 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 3 女屋崇, 生田目 俊秀, 井上 万里, 澤田 朋実, 太田裕之, 森田行則 240th ECS Meeting / https://www.electrochem.org/240/ 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 4 女屋 崇, 生田目 俊秀, 井上 万里, 澤田 朋実, 太田 裕之, 森田 行則 TiN/HfxZr1−xO2/Si-MFS作製におけるSiO2界面層成長の抑制 第82回応用物理学会秋季学術講演会 / https://meeting.jsap.or.jp/ 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 5 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 井上 万里, 廣瀨 雅史, Ryota Ochi, 色川 芳宏, Tamotsu Hashizume, Koji Shiozaki, 小出 康夫 Investigation of HfSiOx gate insulator formed by changing fabrication process conditions for GaN power device AWAD2021 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 6 Fumikazu Mizutani, Makoto Mizui, Nobutaka Takahashi, 井上 万里, 生田目 俊秀 Growth Mechanism of the Atomic Layer Deposition of ZnO Thin Films Using Bis(n-propyltetramethylcyclopentadienyl)zinc 21st International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2021) 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 7 女屋崇, 生田目俊秀, 澤本直美, 大井暁彦, 池田直樹, 長田貴弘, 小椋厚志 AVS 21st International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2021) / https://ald2021.avs.org/ 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 8 生田目 俊秀, 井上 万里, 前田 瑛里香, 女屋 崇, 廣瀨 雅史, 小林 陸, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塚越 一仁 21st International Conference on Atomic Layer Deposition 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 9 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 井上 万里, Ryota Och, 色川 芳宏, Tamotsu Hashizume, Koji Shiozaki, 小出 康夫 Study of HfSiOx film as gate insulator for GaN power device 20th International Workshop on Junction Technology 2021 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 10 生田目 俊秀, 色川 芳宏, Akira Uedono, 大井 暁彦, 池田 直樹, 小出 康夫 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS（THERMEC'2021) 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 11 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 塩崎宏司, 清野肇, 池田 直樹 International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS (THERMEC'2021) 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 12 女屋 崇, 生田目 俊秀, Yong Chan Jung, Heber Hernandez-Arriaga, Jaidah Mohan, Harrison Sejoon Kim, 澤本 直美, Chang-Yong Nam, Esther H. R. Tsai, 長田 貴弘, Jiyoung Kim, 小椋 厚志 放射光X線による低温形成したHfxZr1−xO2薄膜の直方晶相同定の検討 第68回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 13 女屋崇, 生田目俊秀, 澤本直美, 大井暁彦, 池田直樹, 長田貴弘, 小椋厚志 MANA International Symposium 2021/https://www.nims.go.jp/mana/2021/index.html 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 14 越智亮太, 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 塩﨑宏司, 橋詰　保 HfSiOxゲート AlGaN/GaN HEMTsのDC特性とMOS界面評価 電子デバイス研究会「化合物半導体ICおよび超高速・超高周波デバイス／マイクロ波一般 」 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2021 15 女屋 崇, 生田目 俊秀, Yong Chan Jung, Heber Hernandez-Arriaga, Jaidah Mohan, Harrison Sejoon Kim, 澤本 直美, 長田 貴弘, Jiyoung Kim, 小椋 厚志 パルス測定法による低温度作製したHfxZr1−xO2薄膜の強誘電体スイッチング特性及び分極疲労メカニズムの研究 第26回 電子デバイス界面テクノロジー研究会－材料・プロセス・デバイス特性の物理－ (EDIT26) 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 1 女屋 崇, 生田目 俊秀, 井上 万里, Yong Chan Jung, Heber Hernandez-Arriaga, Jaidah Mohan, Harrison Sejoon Kim, 澤本 直美, 長田 貴弘, Jiyoung Kim, 小椋 厚志 51th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 2 小林 陸, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 小椋 厚志 33rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference/https://mnc2020.award-con.com/LOGIN.php 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 3 生田目 俊秀, 大石知司, 井上 万里, 高橋　誠, 伊藤和博, 池田 直樹, 大井 暁彦 PRime2020 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 4 女屋 崇, 生田目 俊秀, 井上 万里, Yong Chan Jung, Heber Hernandez-Arriaga, Jaidah Mohan, Harrison S. Kim, 澤本 直美, 長田 貴弘, Jiyoung Kim, 小椋 厚志 Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid-State Science 2020 (PRiME 2020) 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 5 女屋 崇, 生田目 俊秀, 井上 万里, Yong Chan Jung, Heber Hernandez-Arriaga, Jaidah Mohan, Harrison S. Kim, 澤本 直美, 長田 貴弘, Jiyoung Kim, 小椋 厚志 HfxZr1−xO2/ZrO2積層構造による強誘電体厚膜の強誘電性の向上 第81回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 6 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塩崎宏司, 橋詰保, 清野肇 GaNパワーデバイス用HfAlOx、HfSiOx、AlSiOx、Al2O3及びHfO2 絶縁膜の特性比較 第81回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 7 越智 亮太, 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 塩崎 宏司, 橋詰 保 HfSiOxゲートAlGaN/GaN MOS-HEMTのゲート制御性 第81回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 8 小林 陸, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 小椋 厚志 Air及びN2雰囲気のバイアスストレスによるアモルファスCarbon-doped In2O3TFTのトランジスタ特性 第81回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 9 女屋 崇, 生田目 俊秀, Y. C. Jung, H. Hernandez-Arriaga, J. Mohan, H. S. Kim, A. Khosravi, 澤本 直美, 長田 貴弘, R. M. Wallace, J. Kim, 小椋 厚志 20th International Conference on Atomic Layer Deposition 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 10 生田目 俊秀, Takashi Onaya, Erika Maeda, Masashi Hirose, 色川 芳宏, Koji Shiozaki, 小出 康夫 Study of ALD HfO2-based high-k for GaN power devices and Ferroelectric devices 20th International conference on Atomic Layer Deposition (ALD/ALE 2020) 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 11 女屋 崇, 生田目 俊秀, Y. C. Jung, H. Hernandez-Arriaga, J. Mohan, H. S. Kim, A. Khosravi, 澤本 直美, 長田 貴弘, R. M. Wallace, J. Kim, 小椋 厚志 20th International Conference on Atomic Layer Deposition 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 12 狩野 絵美, 三石 和貴, 色川 芳宏, 生田目 俊秀, 木本 浩司, 加地徹, 小出 康夫 GaN方位によるアルミナ結晶化の違い 日本顕微鏡学会第76回学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 13 廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 池田 直樹, 色川 芳宏, 小出 康夫, 清野肇 PDA雰囲気ガスがn-β-Ga2O3/Al2O3/Pt MOSキャパシタの電気特性へ及ぼす影響 第67回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 14 杉山 直之, 生田目 俊秀, 上杉 文彦, 内城貴則, 川崎直彦 半導体メモリ絶縁膜特性解明に対する 電子顕微鏡を中心とした分析的アプローチ 第67回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 15 女屋 崇, 生田目 俊秀, Y. C. Jung, H. Hernandez-Arriaga, J. Mohan, H. S. Kim, A. Khosravi, 澤本 直美, 長田 貴弘, R. M. Wallace, J. Kim, 小椋 厚志 プラズマ原子層堆積法で300 °C低温形成した強誘電体HfxZr1−xO2薄膜の疲労特性 第67回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 16 越智 亮太, 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 塩崎 宏司, 橋詰 保 HfSiOxゲート AlGaN/GaN MOS-HEMT の電気的特性評価 第67回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 17 小林 陸, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 小椋 厚志 NBS及びPBSによるアモルファスCarbon-doped In2O3TFTの信頼性特性 2020年第67回応用物理春季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 18 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塩崎宏司, 清野肇 GaN/HfSiOx界面でSiO2及びHfO2初期成長層が電気特性へ及ぼす影響 第67回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 19 小林 陸, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 小椋 厚志 MANA INTERNATIONAL SYMPOSIUM 2020/https://www.nims.go.jp/mana/2020/ 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 20 ノ ハイ ダン, チェン カイ, ドアン アン ツン, ハンデガード セレ オルヤン, ゴ ドゥック テイエン, ダオ デュイ タン, 池田 直樹, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭 The 13th MANA International Symposium 2020 jointly with ICYS 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 21 小林 陸, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 小椋 厚志 ALD法で作製したC-doped及びC-free In2O3膜を チャネルとした酸化物TFTの比較 "「電子デバイス界面テクノロジー研究会 －材料・プロセス・デバイス特性の物理－」（第25回）" 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 22 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塩崎宏司, 清野肇 GaN/HfSiOxキャパシタの電気特性に対するHfSiOx絶縁膜の膜厚依存性 第25回電子デバイス界面テクノロジー研究会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 23 廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 池田 直樹, 色川 芳宏, 小出 康夫, 清野肇 Al2O3/β-Ga2O3スタック構造のPMA効果と界面特性の関係 電子デバイス界面テクノロジー研究会　ー材料・プロセス・デバイス特性の物理ー 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2020 24 廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 池田 直樹, 色川 芳宏, 小出 康夫, 清野肇 Al2O3/β-Ga2O3スタック構造のPMA効果と界面特性の関係 電子デバイス界面テクノロジー研究会　ー材料・プロセス・デバイス特性の物理ー 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 1 生田目 俊秀, 色川 芳宏, 塩崎 宏司, 小出 康夫 Electrical properties of GaN MOS capacitors with ALD-High-k gate insulators MATERIALS RESEARCH MEETING 2019 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 2 女屋 崇, Y. C. Jung, 生田目 俊秀, H. Hernandez-Arriaga, J. Mohan, H. S. Kim, A. Khosravi, N. Sawamoto, R. M. Wallace, 長田 貴弘, J. Kim, 小椋 厚志 50th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 3 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 堀江 智之, 池田 直樹, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 塩崎宏司, 清野肇 HfSiO x 絶縁膜 の GaN パワーデバイス における n GaN/HfSiO x 界面の構造解析 第2回結晶工学×ISYSE合同研究会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 4 廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 池田 直樹, 色川 芳宏, 小出 康夫, 清野肇 2019 IWDTF 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 5 サン リウエン, 任 兵, 遠藤 頼夢, 増田 卓也, 生田目 俊秀, 角谷 正友, 小出 康夫, 廖 梅勇 The 9th Asia-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 6 女屋 崇, 生田目 俊秀, Y. C. Jung, H. Hernandez-Arriaga, J. Mohan, N. Sawamoto, H. S. Kim, R. M. Wallace, J. Kim, A. Khosravi, 長田 貴弘, 小椋 厚志 The 19th Annual Non-Volatile Memory Technology Symposium 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 7 ノ ハイ ダン, ハンデガード セレ オルヤン, ゴ ドゥック テイエン, ダオ デュイ タン, ドアン アン ツン, 長尾 忠昭, 生田目 俊秀 Structure, optical and electrical properties of sputter deposited LaB6 thin films Annual Meeting of the Japan Society of Vacuum and Surface Science 2019 日本表面真空学会学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 8 小林 陸, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 小椋 厚志 236th ECS Meeting 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 9 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 井上 万里, 廣瀨 雅史, 清野肇, 色川 芳宏, 塩崎宏司, 小出 康夫 Characteristics of several High-k gate insulators for GaN power device 236th ECS Meeting 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 10 ノ ハイ ダン, チェン カイ, ドアン アン ツン, ハンデガード セレ オルヤン, ダオ デュイ タン, ゴ ドゥック テイエン, 生田目 俊秀, 池田 直樹, 長尾 忠昭, 大井 暁彦 ICSFS19-The 19th International Conference on Solid Films and Surfaces 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 11 三石 和貴, 木本 浩司, 色川 芳宏, 生田目 俊秀, 小出 康夫 電子顕微鏡による電子材料評価技術の最近の発展 第 38 回電子材料シンポジウム （EMS38) 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 12 ノ ハイ ダン, チェン カイ, ドアン アン ツン, ハンデガード セレ オルヤン, ゴ ドゥック テイエン, 池田 直樹, ダオ デュイ タン, 大井 暁彦, 長尾 忠昭, 生田目 俊秀 応用物理学会秋季学術講演会/JSAP Autumn Meeting 2019 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 13 廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 池田 直樹, 大井 暁彦, 色川 芳宏, 岩井 秀夫, 安福 秀幸, 川田 哲, 高橋誠, 伊藤和博, 小出 康夫, 清野肇 Pt/Al2O3/β-Ga2O3 MOSキャパシタの熱処理温度による電気特性の変化 第80回応用物理学会秋季学術講演 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 14 水谷 文一, 東 慎太郎, 井上 万里, 生田目 俊秀 液体原料（GaCp*）を用いた高純度Ga2O3薄膜の原子層堆積 第80回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 15 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 池田 直樹, 塩崎宏司, 清野肇 GaN/HfSiOx/PtキャパシタでGaN/HfSiOx界面が電気特性に及ぼす影響 第80回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 16 生田目 俊秀, 大石 知司, 井上 万里, 高橋 誠, 伊藤 和博, 池田 直樹, 大井 暁彦 Al2O3/TiO2二層構造を用いたフレキシブル抵抗変化型メモリの抵抗スイッチング特性 2019年日本金属学会秋期講演大会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 17 水谷 文一, 東　慎太郎, 井上 万里, 生田目 俊秀 GaCp*を原料とした高純度Ga2O3 薄膜の原子層堆積 第140回講演大会　表面技術協会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 18 生田目 俊秀 Hf-Si-O系GaNゲート絶縁膜 IG-GaN研究会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 19 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, Makoto Takahashi, Kazuhiro Ito, 清野　肇 ALD2019 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 20 廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 池田 直樹, 色川 芳宏, 小出 康夫, 清野肇 Influence of surface cleaning process on initial growth of ALD-Al2O3 and electrical properties of Pt/Al2O3/β-Ga2O3 MOS capacitors ALD2019 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 21 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, Makoto Takahashi, 池田 直樹, Kazuhiro Ito, 清野　肇 ALD2019 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 22 廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 弓削 雅津也, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 池田 直樹, 色川 芳宏, 岩井 秀夫, 安福 秀幸, 川田 哲, 小出 康夫 INFOS 2019 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 23 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 弓削 雅津也, 大井 暁彦, 清野肇, 池田 直樹, 塩崎宏司 INFOS 2019 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 24 女屋 崇, 澤本 直美, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋 厚志 21th Conference of “Insulating Films on Semiconductors” 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 25 生田目 俊秀 原子層堆積法によるHf系酸化膜の作製とその特性 第４回原子層プロセスワークショップ 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 26 Ha Hoang, Kazutaka Sasaki, Tatsuki Hori1, 塚越 一仁, 生田目 俊秀, Bui Nguyen Quoc Trinh International Conference on Materials Engineering and Nano Sciences (ICMENS 2019) 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 27 水谷　文一, 東　慎太郎, 井上 万里, 生田目 俊秀 " 新規原料（ GaCp*)によるGa2O3薄膜の原子層堆積" 第139回講演大会　表面技術協会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 28 弓削 雅津也, 生田目 俊秀, 色川 芳宏, 大井 暁彦, 池田 直樹, 上殿 明良, サン リウエン, 小出 康夫, 大石 知司 Influence of post-deposition annealing on interface characteristics at Al2O3/n-GaN " Electron Devices Technology and Manufacturing Conference" 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 29 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋 厚志 IEEE EDTM 2019 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 30 堀 龍輝, Ha Hong, 生田目 俊秀, 塚越 一仁, 藤原 明比古 アモルファス酸化物薄膜半導体 In-Si-O 薄膜の相安定性 第66回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 31 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本 直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋 厚志 300 °C低温形成したHfxZr1−xO2薄膜の強誘電性 第66回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 32 SEO Okkyun, KIM Jaemyung, HIROI Satoshi, IROKAWA Yoshihiro, NABATAME Toshihide, KOIDE Yasuo, SAKATA Osami Characterization of a GaN wafer and a homo-epitaxial layer by synchrotron X-ray topography techniques The 66th JSAP Spring Meeting, 2019 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 33 Ha Hoang, Kazutaka Sasaki, Tatsuki Hori, 塚越 一仁, 生田目 俊秀, Bui Nguyen Quoc Trinh, Aikihiko Fujiwara1 第66回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 34 生田目 俊秀, 百瀬 健, 霜垣 幸浩, 出浦 桃子, 遠藤 和彦, 入沢 寿史, 岡田 直也, 有本 宏, 佐藤 宗英 原子層プロセス（ALP）技術開発推進を目指した包括的な産学連携体の構築 TIA光・量子計測シンポジウム 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 35 ノハイ ダン, ゴドゥック テイエン, 玉内朱美, CHENKai, ハンデガードオルヤン セレ, ンギュエン クウォン ター, 梅澤直人, Annemarie Pucci, 長尾 忠昭, 生田目 俊秀 MANA International Symposium 2019 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 36 弓削 雅津也, 生田目 俊秀, 色川 芳宏, 大井 暁彦, 池田 直樹, 上殿明殿, サン リウエン, 小出 康夫, 大石知司 " Al2O3/n-GaN界面での伝導帯/価電子帯近傍の界面準位密度に関する研究" " 膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会" 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 37 廣瀨雅史, 生田目俊秀, 大井暁彦, 前田瑛里香, 弓削雅津也, 池田直樹, 色川芳宏, 小出康夫 Al2O3絶縁膜を用いたn-GaN及びn-β-Ga2O3キャパシタの電気特性の比較 第24回電子デバイス界面テクノロジー研究会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 38 小林 陸, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 木津 たきお, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 塚越 一仁, 小椋 厚志 低温度ALD法を用いてAl2O3及びSiO2下地基板へ形成したIn2O3膜の特性 電子デバイス界面テクノロジー研究会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2019 39 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 弓削 雅津也, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塩崎宏司, 清野肇 Hfリッチな組成のHfSiOxゲート絶縁膜を用いたn-GaN MOSキャパシタの特性 第24回電子デバイス界面テクノロジー研究会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2018 1 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋厚志 Improvement of Ferroelectricity of HfxZr1−xO2 Thin Films by New ZrO2 Nucleation Technique 49th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2018 2 生田目 俊秀 ALD法を用いた電子デバイスの強誘電体/高誘電体薄膜の作製技術 薄膜実践セミナーIV 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2018 3 キム ジェミョン, ソ オッキュン, ソン チョルホ, 廣井 慧, チェン ヤナ, 色川 芳宏, 生田目 俊秀, 小出 康夫, 坂田 修身 Lattice-plane orientation mapping of 2-inch homo-epitaxial GaN (0001) thin films by grazing incident x-ray diffraction topography IWN 2018 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2018 4 生田目 俊秀, 色川 芳宏, Koji Shiozaki, 小出 康夫 Study of High-k gate insulator for GaN power device by atomic layer deposition 31st International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2018 5 色川 芳宏, 三石 和貴, 生田目 俊秀, 木本 浩司, 小出 康夫 International Workshop on Nitride Semiconductors 2018 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2018 6 陳 君, イ ウェイ, 木村 隆, 生田目 俊秀, 関口 隆史 The International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN2018) 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2018 7 色川 芳宏, 三石 和貴, 鈴木 拓, 弓削 雅津也, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 大西 剛, 木本 浩司, 小出 康夫 Comprehensive Study of Native Oxides on GaN(0001) International Workshop on Nitride Semiconductors 2018 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2018 8 生田目 俊秀 原子層堆積法の基礎とそれを用いた応用 日本学術振興会「先端ナノデバイス・材料テクノロジー第151委員会」 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2018 9 坂田 修身, キム ジェミョン, ソ オッキュン, ソン チョルホ, チェン ヤナ, 廣井 慧, 色川 芳宏, 生田目 俊秀, 小出 康夫 ホモエピタキシャルGaN (0001)格子面の方位マッピング 日本結晶学会2018年度年会 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2018 10 エルアミル アアハメド モハメド エルサイド アハメド, 大澤 健男, 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 和田 芳樹, 中村 優, 島村 清史, 大橋 直樹 JCCG47 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2018 11 生田目 俊秀, 井上 万里, 前田瑛里香, 弓削雅津也, 廣瀨雅文, Makoto Takahashi, Kazuhiro Ito, 池田 直樹, Tomoji Ohishi, 大井 暁彦 Growth mechanism and characteristics of Hf-Si-O film by PE-ALD using TDMAS and TDMAH precursors and oxygen plasma gas AVS 65th International symposium & Exhibition 2024-04-26 00:50:14 +0900 Presentation 2018 12 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋厚志 ゲートバイアスストレスにおけるAl2O3パッシベーション層を用いたAl2O3/In-SI-O-C薄膜トランジスタの信頼性 AiMES 2018 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 13 女屋崇, 生田目俊秀, 澤本直美, 栗島一徳, 大井暁彦, 池田直樹, 長田貴弘, 小椋厚志 AiMES 2018 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 14 廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 弓削 雅津也, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 色川 芳宏, 小出 康夫, 池田 直樹 表面処理方法がβ-Ga2O3/Al2O3/Pt MOSキャパシタの電気特性へ及ぼす影響 第79回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 15 前田 瑛里香, 生田目 俊秀, 弓削 雅津也, 廣瀨 雅史, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塩崎宏司, 大石知司 HfSiOx絶縁膜を用いたn-GaN MOSキャパシタの高耐圧特性 第79回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 16 キム ジェミョン, ソ オッキュン, ソン チョルホ, 廣井 慧, チェン ヤナ, 色川 芳宏, 生田目 俊秀, 小出 康夫, 坂田 修身 Lattice-plane orientation mapping of 2-inch homo-epitaxial GaN (0001) thin films by grazing incident x-ray diffraction topography JSAP Autumn Meeting 2018 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 17 生田目 俊秀, 女屋 崇, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 小椋厚志 ZrO2シード層による強誘電体HfxZr1−xO2薄膜形成 2018年 第79回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 18 色川 芳宏, 鈴木 拓, 弓削 雅津也, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 木本 浩司, 大西 剛, 三石 和貴, 小出 康夫 GaN(0001)自然酸化膜の複合的評価 第79回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 19 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋厚志 ナノZrO2核生成層を用いた強誘電体HfxZr1−xO2薄膜の作製技術 第79回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 20 廣瀨 雅史, 生田目 俊秀, 弓削 雅津也, 前田 瑛里香, 大井 暁彦, 色川 芳宏, 小出 康夫, 池田 直樹 表面処理方法がβ-Ga2O3/Al2O3/Pt MOSキャパシタの電気特性へ及ぼす影響 第79回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 21 水谷文一, 東慎太郎, 井上 万里, 生田目 俊秀 新規原料（GaCp*）による酸化ガリウム薄膜の原子層堆積 2018年 第79回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 22 小出 康夫, 生田目 俊秀, 色川 芳宏, 三石 和貴 GaN系絶縁膜制御技術 応用物理学会 特別シンポジウム：GaNのエピタキシャル成長とデバイス 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 23 弓削 雅津也, 生田目 俊秀, 色川 芳宏, 大井 暁彦, 池田 直樹, 上殿 明良, サン リウエン, 小出 康夫, 大石 知司 光支援C-V法を用いたAl2O3/n-GaN界面ディープトラップの分析 Solid State Devices and Materials 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 24 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋厚志 Impact of Top-ZrO2 Nucleation Layer on Ferroelectricity of HfxZr1−xO2 Thin Films for Ferroelectric Field Effect Transistor Application SSDM2018 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 25 Ha Hoang, Tatsuki Hori, To-oru Yasada, 木津 たきお, 塚越 一仁, 生田目 俊秀, Bui Nguyen Quoc Trinh, A.Fujiwara Characterization of solution-processed In-Si-O thin-film transistors International Conference on Solid State Devices and Materials (S 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 26 重藤　訓志, 木津 たきお, 塚越 一仁, 生田目 俊秀 In-situ SEM observation of Metal Oxide Semiconductor Film Crystallization Royal Society of Chemistry-Tokyo International Conference (RSC-T 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 27 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志 Effect of ZrO2 capping-layer on ferroelectricity of HfxZr1−xO2 thin films by ALD using Hf/Zr cocktail precursor 18th International Conference on Atomic Layer Deposition 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 28 生田目 俊秀, 井上 万里, 高橋誠, 伊藤和博, 池田 直樹, 大井 暁彦 Different growth mechanism of SiO2 layer on various High-k films by PE-ALD using Tris(dimethylamino)silane and oxygen plasma 18th International Conference on Atomic Layer Deposition 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 29 水谷文一, 東 慎太郎, 井上 万里, 生田目 俊秀 Reaction Mechanisms of the Atomic Layer Deposition of Indium Oxide Thin Films Using Ethylcycropentadienyl Indium 18th International Conference on Atomic Layer Deposition 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 30 Ha Hoang, Tatsuki Hori, To-oru Yasuda, 木津 たきお, 塚越 一仁, 生田目 俊秀, Bui Nguyen Quoc Trinh, Akihiko Fujiwara Investigation on solution-processed In-Si-O thin film transistor via spin-coating method 25th International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 31 生田目 俊秀, 色川 芳宏, 大井 暁彦, 池田 直樹, サン リウエン, 小出 康夫, 大石知司 Al2O3/n-GaNキャパシタの自然酸化膜層が電気特性へ及ぼす影響 シリコン材料・デバイス研究会 (SDM) 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 32 小出 康夫, 坂田 修身, 渡邊 賢司, 三石 和貴, 生田目 俊秀, 色川 芳宏 p-GaN中の結晶欠陥の複合的な評価 応用物理学会 結晶工学分科　会第１４９回結晶工学分科会研究会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 33 生田目 俊秀 ALD-Al2O3成長におけるAl2O3/基板界面の解析 第28回シンポジウム「アトミックレイヤープロセッシングの基礎と最新 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 34 生田目 俊秀, 木村将之, 弓削 雅津也, 井上 万里, 池田 直樹, 大石知司, 大井 暁彦 原子層堆積法の成長条件がAl2O3膜の特性へ及ぼす影響 2018春期（第162回）日本金属学会講演大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 35 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志 上下ZrO2核生成層によるHfxZr1−xO2薄膜の強誘電性の改善 第65回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 36 陳 君, イ ウェイ, 関口 隆史, 生田目 俊秀, 江戸雅晴 電子線誘起電流法によるGaN Schottky領域の転位と電流リーク箇所の観察 第65回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 37 弓削 雅津也, 生田目 俊秀, 色川 芳宏, 大井 暁彦, 池田 直樹, サン リウエン, 知京 豊裕, 小出 康夫, 大石 知司 Al2O3/n-GaNキャパシタの酸化ガリウム界面層が電気特性へ及ぼす影響 第65回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 38 ダオ デュイ タン, チェン カイ, 石井 智, 横山 喬大, 澤田 朋実, ラム パスパティ スガヴァネシュワー, シンデ サティッシュ ラクスマン, ドアン アン ツン, 和田 芳樹, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭 Large-Area Perfect Absorbers for Infrared Spectroscopic Devices MANA International Symposium 2018 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 39 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志 上下ZrO2核生成層を用いたHfxZr1−xO2薄膜の強誘電性の向上 第23回電子デバイス界面テクノロジー研究会―材料・プロセス・デバイ 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2018 40 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 木津 たきお, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志 酸化物薄膜トランジスターに対する信頼性へのAl2O3/In0.76Si0.24O0.99C0.01界面の影響 PCSI-45 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 1 色川 芳宏, 鈴木 拓, 弓削 雅津也, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 木本 浩司, 大西 剛, 三石 和貴, 小出 康夫 Surface analysis of native oxides on GaN(0001): An LEIS and RHEED study 第18回「イオンビームによる表面・界面解析」特別研究会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 2 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志 Improvement in ferroelectricity of HfxZr1-xO2 thin films using double nanocrystal ZrO2 layers 2017 IWDTF 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 3 生田目 俊秀 電子デバイスにおける原子層堆積技術の有効性 第5回エレクトロニクス薄膜材料研究会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 4 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志 ZrO2シード層がHfxZr1-xO2薄膜の強誘電性へ及ぼす効果 シリコン材料・デバイス研究会-プロセス科学と新プロセス技術- 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 5 陳 君, イ ウェイ, ジョ ユージン, 生田目 俊秀, 関口 隆史, 知京 豊裕 EBIC法によってGaN MISデバイス界面の観察 The 17th conference on Defects-Recognition, Imaging and Physics 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 6 生田目 俊秀 Characteristics of RuO2/TiO2/Al2O3/TiO2/RuO2 Capacitors 232nd ECS MEETING 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 7 水谷　文一, 東慎太郎, 生田目 俊秀 液体原料を用いた高純度インジウム酸化膜の原子層堆積 第136回表面技術協会講演大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 8 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志 ナノ結晶ZrO2シード層を用いた厚膜HfxZr1-xO2の強誘電性 第78回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 9 木津 たきお, 相川 慎也, 池田幸弘, 上野啓司, 生田目 俊秀, 塚越 一仁 ALDで形成したInOx高移動度TFT 第78回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 10 相川 慎也, 木津 たきお, 生田目 俊秀, 塚越 一仁 急峻なサブスレッショルドスロープを持つALD-AlOx ゲート絶縁膜アモルファス 第78回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 11 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 木津 たきお, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志 High-k/In1-xSixO1-yCyチャネル界面がトランジスタ特性に及ぼす影響 2017年 第78回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 12 Jan Hani Esmael, Hoang Ha, 中村 翼, 古賀 友彰, 伊奈 稔哲, 宇留賀 朋哉, 木津 たきお, 塚越 一仁, 生田目 俊秀, 藤原明比古 Structural characteristics of In-Si-O films fabricated via solution processing IUMRS-ICAM 2017 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 13 Hoang Ha, Jan Hani Esmael, 古賀友彰, 木津 たきお, 塚越 一仁, 生田目 俊秀, 藤原明比古 Characterization of doped In2O3 thin films by spin-coating technique IUMRS-ICAM 2017 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 14 JAN Esmael Hani, HOANG Ha, NAKAMURA Tsubasa, KOGA Tomoaki , INA　Toshiaki , URUGA Tomoya, KIZU, Takio, TSUKAGOSHI, Kazuhito, NABATAME, Toshihide, FUJIWARA Akihiko Structural characteristics of In-Si-O films fabricated via solution processing IUMRS-ICAM 2017 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 15 HOANG Ha, JAN Esmael Hani, KOGA Tomoaki , KIZU, Takio, TSUKAGOSHI, Kazuhito, NABATAME, Toshihide, FUJIWARA Akihiko Characterization of doped In2O3 thin films by spin-coating technique IUMRS-ICAM 2017 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 16 女屋 崇, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志 Effect of ZrO2-seed-layer on ferroelectricity of HfxZr1-xO2 thin film for memory applications XXVI International Materials Research Congress 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 17 生田目 俊秀 Resistive switching characteristics in memristors with Al2O3-TiO2 bilayers XXVI International Materials Research Congress 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 18 生田目 俊秀 熱ALD及びPE-ALD法で形成したHigh-k絶縁膜 2017年真空・表面科学合同講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 19 Kunji Shigeto, 木津 たきお, 塚越 一仁, 生田目 俊秀 Radial Interference Contrast in in-situ SEM Observation of Metal Oxide Semiconductor Film Crystallization Microscopy & Microanalysis 2017 Meeting 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 20 Fumikazu Mizutani, Shintaro Higashi, 生田目 俊秀 High purity indium oxide films prepared by modified ALD using liquid ethylcyclopentadienyl indium 17th International Conference on Atomic Layer Deposition 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 21 ダオ デュイ タン, 石井 智, 横山 喬大, 澤田 朋実, ラム パスパティ スガヴァネシュワー, チェン カイ, 和田 芳樹, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭 Spectrally-Selective Infrared Detectors using Hole Array Perfect Absorbers The 8th International Conference on Surface Plasmon Photonics 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 22 生田目俊秀 Trapping mechanism of charge trap capacitor with Al2O3/High-k/Al2O3 multilayer ULSI vs. TFT6 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 23 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 木津 たきお, 塚越 一仁, 女屋 崇, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志 CドープIn-Si-O薄膜トランジスタの負バイアス不安定性 ULSIC vs TFT 2017 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 24 山崎祥美, 大石知司, 生田目 俊秀 光照射とポリシラザン塗布膜による高ガスバリア膜低温形成技術の開発 日本セラミックス協会　2017年会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 25 弓削 雅津也, 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 大石知司 Pt触媒効果により酸素欠陥及び酸素を導入したAl2O3膜の特性 APS March Meeting 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 26 女屋 崇, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志 ALD-ZrO2シード層によるHfxZr1-xO2膜の強誘電性の改良 第64回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 27 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 木津 たきお, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志 ホールトラップがCドープIn-Si-Oのトランジスタ特性へ及ぼす影響 第64回 応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 28 ダオ デュイ タン, 石井 智, 横山 喬大, 澤田 朋実, ラム パスパティ スガヴァネシュワー, チェン カイ, 和田 芳樹, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭 Hole Array Perfect Absorbers for Spectrally Selective Infrared Detectors MANA International Symposium 2017 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 29 弓削 雅津也, 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 大石知司 Pt触媒効果を用いたALD-Al2O3膜の熱処理雰囲気とVfbシフトの関係 電子デバイス界面テクノロジー研究会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 30 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 木津 たきお, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志 酸化物薄膜トランジスタにおけるCドープIn-Si-OとIn-Si-Oチャネルの信頼性の比較 第22回電子デバイス界面テクノロジー研究会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2017 31 女屋 崇, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志 High-kシード層がHfZrO2膜の強誘電性へ及ぼす影響 電子デバイス界面テクノロジー研究会 材料・プロセス・デバイス特性 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 1 生田目 俊秀 Trapping mechanism of charge trap capacitors with various high-k multilayers ENGE 2016 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 2 生田目 俊秀 Characteristics of charge trap capacitors with high-k multilayer Nano Science & Technology-2016 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 3 生田目 俊秀 Effect of TMA on resistive switching characteristics in memristors with TiO2/Al2O3 bilayer 2016 China ALD conference 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 4 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志 Role of Interlayer in ZrO2/high-k/ZrO2 Insulating Multilayer on Electrical Properties for DRAM Capacitor PRiME 2016 (2016年電気化学会(ECSJ)秋季大会) 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 5 ダオ デュイ タン, 石井 智, 横山 喬大, 澤田 朋実, ラム パスパティ スガヴァネシュワー, チェン カイ, 和田 芳樹, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭 Plasmonic Hole Array Perfect Absorbers for Wavelength-Selective Infrared Pyroelectric Detectors 2016 Int. Conf. on Solid State Devices and Materials (SSDM2016) 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 6 生田目 俊秀, 伊藤　和博, 高橋　誠, 弓削　雅津也, 女屋 崇, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 大石　知司, 小椋　厚志, 知京 豊裕 Al2O3/ZrO2/Al2O3チャージトラップキャパシタにおける電子トラップのメカニズム 日本金属学会2016年秋期大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 7 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志 ZrO2/high-k/ZrO2多層絶縁膜を用いたDRAMキャパシタにおけるhigh-k層間絶縁層の役割 第77回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 8 ダオ デュイ タン, 石井 智, 横山 喬大, 澤田 朋実, ラム パスパティ スガヴァネシュワー, チェン カイ, 和田 芳樹, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭 Hole Array Perfect Absorbers for Spectrally Selective Midwavelength Infrared Pyroelectric Detectors The 77rd JSAP Autumn Meeting, 2016 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 9 ダオ デュイ タン, 横山 喬大, 石井 智, 澤田 朋実, チェン カイ, 和田 芳樹, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭 Utilizing Efficient Light - Heat Conversion in Aluminum Perfect Absorbers for Spectrally Selective Infrared Detectors The 77rd JSAP Autumn Meeting (5th JSAP-OSA Joint Symposia), 2016 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 10 ダオ デュイ タン, 石井 智, 横山 喬大, 澤田 朋実, ラム パスパティ スガヴァネシュワー, チェン カイ, 和田 芳樹, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭 Hole Array Plasmonic Perfect Absorbers for Selective Mid-Wavelength Infrared Pyroelectric Dectectors The 14th Int. Conf. Near-Field Optics, Nanophotonics (NFO-14) 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 11 生田目 俊秀 Characteristics of high-k thin films by atomic layer deposition PRICM9 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 12 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 澤本直美, 知京 豊裕, 小椋厚志 Improvement of leakage current properties of ZrO2/(Ta/Nb)Ox-Al2O3/ZrO2 nano-laminate insulating stacks for DRAM capacitor 16th International Conference on Atomic Layer Deposition 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 13 生田目 俊秀, 女屋 崇, 高橋誠, 伊藤和博, 大井 暁彦, 栗島 一徳, 小椋厚志, 知京 豊裕 Comparison of tapping mechanism of ZrO2 and (Ta/Nb)x charge trapping layers for charge trap capacitor with high-k multilayers 16th International Conference on Atomic Layer Deposition 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 14 重藤訓志, 木津 たきお, 塚越 一仁, 生田目 俊秀 金属酸化物半導体薄膜結晶化プロセスのその場SEM観察 第26回電子顕微鏡大学 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 15 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志 ZrO2/Al2O3/ZrO2多層を用いたDRAMキャパシタにおけるAl2O3層が電気特性に及ぼす効果 シリコン材料・デバイス研究会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 16 生田目 俊秀, 山本 逸平, 澤田 朋実, 大井 暁彦, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋　厚志, 大石　知司 Electrical properties of anatase-TiO2 films due to the oxygen vacancy introduced by oxidation of trimethylaluminium 2016 MRS Spring Meeting 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 17 澤田 朋実, 生田目 俊秀, ダオ デュイ タン, 山本 逸平, 栗島 一徳, 女屋 崇, 大井 暁彦, 大石知司, 小椋厚志, 長尾 忠昭 TiO2/Al2O3/TiO2キャパシタにおけるPE-ALD RuO2とTiN電極の耐圧特性の比較 日本金属学会 2016年春期（第158回）講演大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 18 山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司 XPSを用いたトリメチルアルミニウムガスによるTiO2膜からの自己制御型の酸素脱離メカニズムの解析 日本金属学会 2016年春季講演大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 19 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志 酸化物薄膜トランジスタへ向けたCドープしたIn-W-Oチャネル材料の特性 第63回 応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 20 ダオ デュイ タン, 石井 智, チェン カイ, 横山 喬大, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭 Aluminum Infrared Perfect Absorbers for Wavelength Selective Devices The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 21 生田目 俊秀 原子層堆積法で作製した金属酸化物薄膜の電子デバイスへの展開 第63回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 22 木津 たきお, 相川 慎也, 生田目 俊秀, 塚越 一仁 二層 InSiO 薄膜トランジスタ の水素還元とオゾン酸化効果 第63回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 23 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志 ZrO2/Al2O3/ZrO2スタック構造を用いたDRAMキャパシタにおける リーク電流特性の改善 第63回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 24 山崎祥美, 大石知司, 生田目 俊秀, 伊藤和博, 高橋誠 ポリシラザン塗布膜への光照射により作製した高ガスバリア膜形成PETフィルムの性質と構造 日本セラミックス協会　2016年春季年会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 25 ダオ デュイ タン, 石井 智, チェン カイ, 横山 敬郎, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭 Infrared Plasmonic Perfect Absorbers-Based Selective Infrared Devices MANA International Symposium 2016 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 26 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志 CドープIn-Si-Oチャネルの酸化物TFTのバイアスストレス特性の改善 電子デバイス界面テクノロジー研究会（第21回） 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 27 山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司 TMA原料とTiO2膜の酸素の自己制御型反応によるアナターゼTiO2膜への酸素欠損の形成のメカニズム 電子デバイス界面テクノロジー研究会（第21回） 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2016 28 女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志 ZrO2/Al2O3/ZrO2スタック構造を用いたDRAMキャパシタにおけるAl2O3及びZrO2膜厚がリーク電流特性へ及ぼす影響 電子デバイス界面テクノロジー研究会−材料・プロセス・デバイス特性 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 1 鈴木 良尚, 長田 貴弘, 山下 良之, 生田目 俊秀, 小椋, 知京 豊裕 TiO2/Ge 界面のGe拡散による影響 Materials Research Society of Japan 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 2 生田目 俊秀, 大井 暁彦 金属/酸化物接合界面のナノオーダーレベル構造解析 大阪大学接合科学研究所東京セミナー、アディティブ・マニュファクチ 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 3 山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司 Self-limiting Oxygen Vacancy formation into Anatase-TiO2 Films by Trimethylaluminium 46th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 4 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志 酸化物TFTのCドープInSiOチャネル材料の研究 46th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 5 鈴木 良尚, 長田 貴弘, 山下 良之, 生田目 俊秀, 小椋, 知京 豊裕 Ge上ルチル型TiO2成膜条件の最適化の検討 28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 6 澤田 朋実, 生田目 俊秀, 山本 逸平, 栗島 一徳, 女屋　崇, 大井 暁彦, 伊藤　和博, 高橋　誠, 小濱　和之, 大石知司, 小椋厚志, 長尾 忠昭 PE-ALD法により作製したRuO2を下部電極に用いたTiO2/Al2O3/TiO2キャパシターの特性 IWDTF 2015 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 7 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志 CドープしたInSiOチャネルによるバイアスストレス特性の改善 2015 IWDTF 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 8 山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司 Oxygen Vacancy formation into Anatase-TiO2 Films by Oxidation of Trimethylaluminium IWDTF 2015 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 9 Liudmila Alekseeva, Dmitry Chigirev, Eugeny Osachev, Anatoly Petrov, Alexander Romanov, 知京 豊裕, 生田目 俊秀 Resistive switching and memory effects in BE-Pt/Al2O3/TiO2/Pt-TE and BE-Pt/TiO2/Al2O3/Pt-TE systems fabricated by atomic layer deposition 2015 IWDTF 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 10 木津 たきお, 相川 慎也, 三苫 伸彦, 清水 麻希, 高 旭, 林 孟 芳, 生田目 俊秀, 塚越 一仁 Low-temperature Processable Amorphous In-W-O thin-film transistors 9th Intl C on Science and Technology for AdvancedCeramic(STAC-9) 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 11 藤原明比古, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 生田目 俊秀, 塚越 一仁, 為則 雄祐, 加藤健一, 伊奈 稔哲, 宇留賀 朋哉, 尾原 幸治, ロク シンガプリゲ ロシャンタ クマーラ, ソン チョルホ, 坂田 修身, 小原 真司 Structure and Tolerance to Thermal Stress of Doped In2O3 Thin-Films 9th Intl C on Science and Technology for AdvancedCeramic(STAC-9) 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 12 山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司 TMA原料によるanatase-TiO2膜への酸素欠損導入のメカニズムの解明 日本金属学会　2015年秋季講演大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 13 澤田 朋実, 生田目 俊秀, ダオ デュイ タン, 山本 逸平, 栗島 一徳, 女屋崇, 大井 暁彦, 大石知司, 小椋厚志, 長尾 忠昭 TiO2/Al2O3/TiO2スタック絶縁膜を用いたMIMキャパシタの電気特性に対するAl2O3膜厚の影響 日本金属学会 2015年秋期(第157回)講演大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 14 木津 たきお, 相川 慎也, 生田目 俊秀, 塚越 一仁 二層InSiO構造を用いた薄膜トランジスタ 第76回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 15 相川 慎也, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 生田目 俊秀, 塚越 一仁 過剰酸素の抑制による真空環境で安定なIn-Si-O TFT 第76回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 16 川喜多 仁, 知京 豊裕, 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 大木 知子 ガルバニ作用に基づく結露応答センサ 2015年電気化学秋季大会 ・第59回化学センサ研究発表会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 17 生田目 俊秀, 山本 逸平, 澤田 朋実, 大井 暁彦, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 小椋厚志, 大石知司, 知京 豊裕 Control of oxygen vacancy in TiO2 films introduced by ALD using TMA precursor 15th International Conference on Atomic Layer Deposition 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 18 澤田 朋実, 生田目 俊秀, ダオ デュイ タン, 山本 逸平, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 大石知司, 小椋厚志, 長尾 忠昭 PE-ALD法による、SiO2, Al2O3 ,そしてTiO2基板上でのRuO2膜の成長 ALD2015 15th International Conference on Atomic Layer Deposition 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 19 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志 PE-ALD法で作製した極薄膜Al2O3ゲート絶縁膜を用いたGIZO TFTの電気特性 シリコン材料・デバイス研究会 (SDM) 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 20 生田目俊秀 Hetero interface of ionic/covalent oxides for Nano-electronics ULSI vs. TFT 5 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 21 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志 将来のTFTへおける炭素ドープしたIn-Si-Oチャネルのインパクト 227th ECS Meeting 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 22 梁田和也, 山本逸平, 大石知司, 生田目 俊秀 光照射による循環式ポリイミド上への高ガスバリア膜低温形成技術 2015年　日本セラミックス協会　年会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 23 山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司 TMA原料によるAnatase-TiO2膜への酸素欠損の導入とその電気特性 日本金属学会　2015春期大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 24 澤田 朋実, 生田目 俊秀, 石井 智, ダオ デュイ タン, 山本 逸平, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 大石知司, 小椋厚志, 長尾 忠昭 反応性スパッタリング法によるMoドープした酸化スズ膜の形成 金属学会 2015年春期（第156回）講演大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 25 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志 2元スパッタリング法で作製したInSiO系チャネル材料の電気特性 2015年 第62回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 26 三苫 伸彦, 相川 慎也, オウヤン ウェイ, 高 旭, 木津 たきお, 林 孟 芳, 藤原明比古, 生田目 俊秀, 塚越 一仁 アモルファス酸化インジウム薄膜トランジスタにおける電荷密度および移動度の添加元素依存性 応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 27 木津 たきお, 宮永 美紀, 粟田 英章, 生田目 俊秀, 塚越 一仁 アモルファスInWO TFTの微量Zn添加効果 応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 28 山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司 TMA/H2O-ALD法によるRutile-TiO2膜へ酸素欠損の形成による電気特性 第20回ゲート・スタック研究会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 29 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志 CドープしたInSiOチャネル材料の電気特性及び物性に及ぼすCの影響 ゲートスタック研究会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 30 鈴木 良尚, 長田 貴弘, 山下 良之, パウルサミー チナマトゥ, 生田目 俊秀, 小橋 和義, 小椋厚志, 知京 豊裕 Ge上ルチル型TiO2_High-k層へのYドープ濃度の依存性 ゲートスタック研究会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2015 31 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 伊藤 和博, 高橋 誠, 知京 豊裕 Al2O3/(Ta/Nb)Ox/Al2O3チャージトラップキャパシタにおける(Ta/Nb)Ox/Al2O3ブロッキング層の界面がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響 ゲートスタック研究会 材料・プロセス・評価の物理 第20回 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 1 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 伊藤和博, 高橋誠, 知京 豊裕 Visual-JW 2014 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 2 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石　知司, 知京 豊裕 AVS 61st International Symposium & Exhibition 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 3 山本 逸平, Kattareeya Taweesup, 知京 豊裕, 塚越 一仁, 大石知司, 生田目 俊秀 61st AVS 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 4 ダオ デュイ タン, チェン カイ, 石井 智, ガンダム ラクシミナラヤナ, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭 Large Area, Aluminum Metamaterial Perfect Absorbers for Tunable Thermal Radiation The 7th International Symposium on Surface Science, 2014 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 5 生田目 俊秀 Design of Insulators by Atomic Layer Deposition for Semiconductor Devices Materials Science-2014 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 6 生田目 俊秀 ALD成膜技術によるナノ薄膜作製と半導体プロセスへの利用 日本金属学会2014年度秋期講演大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 7 山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司 TMA原料によるRutile-TiO2膜への酸素欠損の導入とその電気特性 日本金属学会　2014年秋季講演大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 8 澤田 朋実, 生田目 俊秀, ダオ デュイ タン, 山本 逸平, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 大石知司, 小椋厚志, 長尾 忠昭 RuO2シードを用いたPE-ALD法で作製したRuO2膜の特性 金属学会　2014年秋期（第155回）講演大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 9 木津 たきお, 相川 慎也, 三苫 伸彦, 清水 麻希, 高 旭, 林 孟 芳, 生田目 俊秀, 塚越 一仁 低温プロセスで高移動度かつ高安定なa-InWO TFT 2014年 第75回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 10 三苫 伸彦, 相川 慎也, 高 旭, 木津 たきお, 清水 麻希, 林 孟 芳, 生田目 俊秀, 塚越 一仁 シリコン添加により制御された酸化インジウム薄膜トランジスタ 2014年　第75回応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 11 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志 炭素添加したInSiOチャネル材料の特性 応用物理学会秋季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 12 ダオ デュイ タン, チェン カイ, 石井 智, ガンダム ラクシミナラヤナ, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭 Large Area, Aluminum Metal-Insulator-Metal Infrared Perfect Absorber The 75th JSAP Autumn Meeting, (JSAP-OSA Joint Symposium) 2014 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 13 塚越 一仁, 生田目 俊秀 The 14th International Meeting on Information Disply (IMID 2014 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 14 木津 たきお, 相川 慎也, 三苫 伸彦, 清水 麻希, 高 旭, 林 孟 芳, 生田目 俊秀, 塚越 一仁 Materials Architectonics for Sustainable Actions (MASA) 2014 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 15 高 旭, 相川 慎也, 三苫 伸彦, 林 孟 芳, 木津 たきお, 生田目 俊秀, 塚越 一仁 Materials Architectonics for Sustainable Actions (MASA) 2014 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 16 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 伊藤和博, 高橋誠, 知京 豊裕 ALD法で作製したAl2O3/(Ta/Nb)Ox/Al2O3多層構造のチャージトラップフラッシュメモリーの評価 平成26年度6月度シリコン材料デバイス研究会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 17 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 清水 麻希, 相川 慎也, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志 PE-ALD法で作製したAl2O3絶縁膜を用いたIGZO TFTの電気特性への影響 14th International Conference on Atomic Layer Deposition 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 18 生田目 俊秀 The AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition 2014 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 19 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 清水 麻希, 相川 慎也, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志 225th ECS Meeting 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 20 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 伊藤和博, 高橋誠, 知京 豊裕 225th ECS Meeting 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 21 生田目 俊秀, Katareeya Taweesup, 高橋誠, 伊藤和博, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司 有機EL用陽極としての極薄膜RuO2膜の特性 日本金属学会2014年春期(第154回)講演大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 22 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 清水 麻希, 相川 慎也, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志 PE-ALD法で作製したAl2O3絶縁膜を用いたIGZO-TFTの電気特性 応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 23 知京 豊裕, 長田 貴弘, 生田目 俊秀, 吉武 道子, 柳生 進二郎, 大毛利 健治 ナノエレクトロニクス分野における国際連携の取り組み 2014年 第61回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 24 小橋 和義, 長田 貴弘, 生田目 俊秀, 山下 良之, 小椋厚志, 知京 豊裕 ルチル型TiO2 界面層を用いたHfO2/Ge界面構造制御 第61回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 25 山本逸平, 生田目 俊秀, Katareeya Taweesup, 高橋誠, 伊藤和博, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司 極薄膜RuO2膜の実効仕事関数 第19回ゲートスタック研究会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 26 長田 貴弘, 小橋 和義, 生田目 俊秀, 山下 良之, 小椋　厚志, 知京 豊裕 ルチル型TiO2緩衝層を用いたHigh-k/Ge界面構造制御に関する研究 ゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―（第19回） 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2014 27 栗島 一徳, 生田目 俊秀, 清水 麻希, 相川 慎也, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志 PE-ALD法で作製したAl2O3絶縁膜を用いたIGZO-TFTの電気特性の変化 ゲートスタック研究会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 1 アブデラリーム アブデラジム アブデルラテフ シーマ, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 谷口 彰良 第35回日本バイオマテリアル学会大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 2 生田目 俊秀 ALD法によるHigher-k絶縁膜の低温作製とCMOSへの展開 第21回シンポジウム「ALDプロセスの基礎と応用」 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 3 小橋 和義, 長田 貴弘, 生田目 俊秀, 山下 良之, 小椋厚志, 知京 豊裕 ルチル型TiO2界面層がHfO2/GeMOS構造に与える影響 SSDM　2013 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 4 ダオ デュイ タン, 新井 暢野, ホアン ヴ チュン, 韓 貴, 生田目 俊秀, 青野 正和, 長尾 忠昭 The 2013 JSAP-MRS Joint Symposia 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 5 アブデラリーム アブデラジム アブデルラテフ シーマ, 生田目 俊秀, 谷口 彰良 Advanced Materials world congress 2013 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 6 生田目 俊秀, 山田 博之, 木村 将之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕 ゲートラストhigh-k CMOSﾌﾟﾛｾｽにおけるゲート絶縁膜としてのALD-(Ta/Nb)ON膜の開発 13th International Conference on Atomic Layer Deposition 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 7 小橋 和義, 長田 貴弘, 生田目 俊秀, 山下 良之, 小椋厚志, 知京 豊裕 ルチル型TiO2界面層がHfO2/Ge MOSデバイスに与える影響 NIMS Conference 2013 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 8 木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕 ALD法で作製したアナターゼ型TiO2膜の電気特性 NIMS Conference 2013 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 9 生田目 俊秀, 木村 将之, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕 メタル/High-kトランジスタにおけるゲート絶縁膜としてのALD-TiO2膜 NIMS Conference 2013 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 10 木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕 Plasma-Enhanced ALD法で作製したＡｌ２Ｏ３膜の特性 NIMS Conference 2013 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 11 小橋 和義, 長田 貴弘, 生田目 俊秀, 山下 良之, 小椋 厚志, 知京 豊裕 HfO2/Ge界面へのルチル型TiO2挿入によるGeOx生成の抑制 シリコン材料・デバイス研究会 (SDM) 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 12 右田真司, 渡邉幸宗, 森田行則, 田岡則之, 水林亘, 昌原明植, 生田目 俊秀, 鳥海明, 太田裕之 Higher-k(k>50)な準安定HfO2膜の簡便でスローなマルテンサイト変化 The Sixth Int. Symposium on Control of Semiconductor Interface 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 13 知京 豊裕, 生田目 俊秀, 長田 貴弘, 陳 君, ギュエン ナム, NGUYENNam, 関口 隆史, 山下 良之, 柳生 進二郎, 吉武 道子 INC9 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 14 木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 成島 利弘, 知京 豊裕, 大石 知司 低温度作製したアナターゼ型TiO2膜の電気特性 2013年　第60回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 15 知京 豊裕, 長田 貴弘, 生田目 俊秀, 山下 良之, 関口 隆史, 陳 君, Yongxun Lui, 昌原明植 ナノスケール機能性酸化物の多様性と次世代デバイスへの期待 第60回応用物理学会春季学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 16 木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 成島 利弘, 伊藤和博, 高橋誠, 知京 豊裕, 大石知司 Anatase/Rutile型TiO2膜の酸素移動とフラットバンド電圧シフトの関係 日本金属学会2013年春期(第152回)講演大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 17 山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 成島 利弘, 知京 豊裕, 大石知司 ALD法で作製したTa-Nb-O-N絶縁膜の電気特性 日本金属学会2013年度春期講演大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2013 18 ソム クマラグルバラン, 知京 豊裕, 長田 貴弘, 生田目 俊秀, 吉武 道子, 柳生 進二郎, 陳 君, 関口 隆史 Second international workshop on advanced functional nanomateria 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 1 知京 豊裕, 大井 暁彦, 生田目 俊秀, 長田 貴弘, 吉武 道子, 陳 君, 関口 隆史, 大毛利 健治 ISAEM-2012 -AMDI-3 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 2 木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司 低温作製したアナターゼ構造のＴｉＯ2膜の電気特性 2012 International Conference on Solid State Devices and Materia 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 3 山下 良之, 吉川 英樹, 知京 豊裕, 生田目 俊秀, 小林 啓介 International Conference on Electron Spectroscopy and Structure 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 4 山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司 低温作製したルチル構造のTi1-X(Nb/Ta)XO絶縁膜の電気特性 日本金属学会2012年秋期（第151回）大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 5 ダオ デュイ タン, ホアン ヴ チュン, ラナ エムディー マスド, 新井 暢野, 韓 貴, 生田目 俊秀, 長尾 忠昭 The 73rd JSAP Autumn meeting, OSA-JSAP joint symposia 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 6 生田目 俊秀, 木村 将之, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕 High-k/SiO2スタック構造におけるHigh-k層の酸素拡散がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響 2012年 秋季 第73回応用物理学会学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 7 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 知京 豊裕 (TaC)1-xAlx/High-kスタックにおけるHigh-k層の酸素及びAl拡散がVfbシフトへ果たす役割 2012 Tsukuba Nanotechnology Symposium TNS 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 8 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 知京 豊裕 先端CMOS向けメタル/High-kゲートスタック技術 第76回半導体・集積回路技術シンポジウム 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 9 木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 成島 利弘, 知京 豊裕, 大石知司 (TaC)1-xAlx/HfO2/SiO2ゲートスタックで熱処理温度に対するAl原子の評価 シリコン材料・デバイス(SDM)研究会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 10 生田目 俊秀, 木村 将之, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕 high-k CMOSへ向けてPE-ALD法で作製したAl2O3, TiO2及びAlTiOx膜の電気特性 12th International Conference on Atomic Layer Deposition 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 11 生田目俊秀 (TaC)1-xAlx電極からのAl拡散によるHfO2ゲートスタックにおけるVfbシフトのメカニズム 221st ECS Meeting 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 12 木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司 (TaC)1-xAlx/HfO2 MOSキャパシタでVfbシフトへ及ぼすAl原子の役割 The Eighth International Nanotechnology Conference on Communicat 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 13 山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕 酸化還元熱処理がITO/HfO2 MOSキャパシタのフラットバンド電圧に及ぼす影響 The Eighth International Nanotechnology Conference on Communicat 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 14 山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司 Ti1-X(Nb/Ta)XO2透明導電膜のNb/Taアロイが光学・電気特性に及ぼす影響 日本金属学会2012年春期(第150回)大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 15 木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司 Plasma Enhanced ALD法によるhigh-k絶縁膜の低温度作製 日本金属学会2012年春期(第150回)大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 16 山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司 酸化還元熱処理によるITO/HfO2 キャパシタのVfbシフトとITO膜の物性との関係 ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第17回) 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2012 17 木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司 (TaC)1-xAlx/HfO2ゲートスタックでVfbシフトへ及ぼすAl原子の役割 ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―（第17回） 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 1 生田目 俊秀, 山田 博之, 木村 将之, 大石知司, 大井 暁彦, 知京 豊裕 同位体18Oを用いて求められたIn0.9Sn0.1O膜の酸素拡散係数 日本金属学会2011年秋期（第149回）大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 2 木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司 (TaC)1-xAlxゲート電極のAl原子によるフラットバンド電圧の制御 日本金属学会2011年秋季（第149回）大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 3 山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司 ITO電極の酸素がHfO2 MOSキャパシタのフラットバンド電圧へ及ぼす影響 日本金属学会2011年秋期（第149回）大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 4 生田目 俊秀 NIMSのCMOSを含む半導体研究 第2回日中電子材料シンポジウム 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 5 山田 博之, 生田目 俊秀, 木村 将之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕 酸化還元熱処理がITO/HfO2 MOSキャパシタのフラットバンド電圧に及ぼす影響 The 3ed NIMS(MANA)- Waseda International Symposium 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 6 木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石知司 HfO2ゲートスタックにおける(TaC)1-xAlx電極のAl原子がVfbに果たす役割 The 3rd NIMS(MANA)- Waseda International Symposium 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 7 木村 将之, 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石　知司 HfO2ゲートスタックにおける(TaC)1-xAlx電極のAl原子がVfbに果たす役割 2011 SSDM 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 8 生田目 俊秀 CMOS技術の開発とその課題 日本金属学会分科会シンポジウム　環境・医療・IT調和型デバイス及び 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 9 原田 善之, 大井 暁彦, 児子 精祐, 加藤 誠一, 北澤 英明, 生田目 俊秀, 木戸 義勇 酸化アルミニウム系ReRAMデバイスの作製２ 第72回応用物理学会学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 10 生田目俊秀 Hfからなるhigh-k誘電体で酸素移動がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響 7th International Conference on Si Epitaxy and Heterostructures 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 11 生田目 俊秀, 山田 博之, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 大石 知司 ITO/HfO2 MOSキャパシタで、酸化・還元熱処理がVfbシフトへ及ぼす影響 シリコン材料・デバイス研究会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 12 生田目 俊秀, 木村 将之, 山田 博之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕 6th Int. Symp. on Control of Semiconductor Interface 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 13 知京 豊裕, 長田 貴弘, 生田目 俊秀, 吉武 道子, 陳 君, 関口 隆史 the 6th CSIRO Advanced Materials Conference & Workshops 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 14 知京 豊裕, 吉武 道子, 生田目 俊秀, 長田 貴弘, 関口 隆史 The 7th International Nanotechnology Conference 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 15 生田目俊秀 high-k/SiO2/Siスタック構造における酸素移動がVfbシフトへ及ぼす役割 219th ECS Meeting 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 16 山田 博之, 大石 知司, 生田目 俊秀, 知京 豊裕 ITO/HfO2 MOSキャパシタのアニール雰囲気がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響 2011年春期（第148回）大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 17 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 山田 博之, 木村 将之, 大石知司 High-k酸化膜の酸素拡散とフラットバンド電圧シフトの関係 日本金属学会　2011年春期大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2011 18 Pattira Homhuan, 生田目 俊秀, 知京 豊裕, Sukkaneste Tungasmita Hf基本構造のHigh-kにおけるTaYCゲート電極のY量がVfb制御へ及ぼす効果 IWDTF-11 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2010 1 知京 豊裕, 生田目 俊秀, 長田 貴弘, ギュエン ナム, 吉武 道子, 陳 君, 関口 隆史 International Workshop on Materials Discovery by Scale-Bridging 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2010 2 生田目俊秀 Hf-酸化物ゲートスタックのＶｆｂシフトへ及ぼす酸素の役割 Int. Conf. on Solid-State and Integ. Circuit Tech. (ICSICT-2010) 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2010 3 生田目俊秀 Pt/high-k/SiO2/Si MOSキャパシタにおけるイオン性/共有結合性酸化物のヘテロ界面がVfbシフトへ果たす役割 218th ECS Meeting 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2010 4 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 知京 豊裕 High-k/SiO2酸化物のヘテロ界面がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響 日本金属学会　2010年秋期大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2010 5 Pattira Homhuan, 生田目 俊秀, 知京 豊裕, Sukkaneste Tungasmita n-メタルゲート電極としてHf-酸化物上へ形成したTa1-xYxC膜の電気特性 2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2010 6 諸岡哲, 佐藤基之, 松木武雄, 鈴木隆之, 上殿明, 白石賢二, 宮崎誠一, 大毛利健治, 山田啓作, 生田目 俊秀, 知京 豊裕, 由上二郎, 池田和人, 大路譲 スケーリングしたMg, La導入したHigh-k/メタルゲートnMISFETにおける面積スケーリングに伴うしきい値電圧増加の抑制 2010 Symposia on VLSI Technology and Circuits 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2010 7 知京 豊裕, 長田 貴弘, 陳 君, 関口 隆史, 吉武 道子, 生田目 俊秀 International Nanotechnology Conference 6 (INC6) 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2010 8 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 知京 豊裕 ナノエレクトロニクスへ向けてイオン性/共有結合性酸化物のヘテロ界面 The Sixth Int. Nanotech. Conf. on Commun. and Cooperation INC6 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2010 9 知京 豊裕, 生田目 俊秀, 長田 貴弘, 梅澤 直人, 吉武 道子, 関口 隆史, 陳 君 1st Singapore-Japan Workshop on Advances in nanomaterials 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2010 10 生田目 俊秀, 原 眞一, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 松木武雄, 由上二郎 HfO2ゲート絶縁膜中の酸素がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響 日本金属学会2010年度春期大会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2010 11 岩下 祐太, 生田目 俊秀, 佐藤 岳志, 松本 弘昭, 小椋　厚志, 知京 豊裕 HfO2 膜へのTaOx キャップ層形成による各界面層の変化 2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2010 12 佐藤岳志, 松本弘昭, 生田目 俊秀, 知京 豊裕, 岩下祐太 In-situ透過電子顕微鏡及びEELS解析による 2010年 春季 第57回 応用物理学関係連合講演会 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2010 13 松木武雄, 大毛利健治, 諸岡哲, 鈴木隆之, 佐藤基之, 木本 浩司, 生田目 俊秀, 宮崎誠一, 白石賢二, 知京 豊裕, 山田啓作, 由上二郎, 松井 良夫, 池田和人, 大路譲 Poly-Si/メタル窒化物/High-kゲートスタックにおける電極放出窒素によるフラットバンド電圧変動 「ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-」（第15回研究 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2009 1 Takeo Matsuki, Kenji Ohmori, Testuo Morooka, Takayuki Suzuki, Motoyuki Sato, 木本 浩司, 生田目 俊秀, Seiichi Miyazaki, Kenji Shirai, 知京 豊裕, Keisaku Yamada, Jiro Yugami, 松井 良夫, Kazuto Ikeda, Yuzuru Ohji Poly-Si/TiN/HfO2/SiO2ゲートスタックのTiNからの窒素起因の窒化反応と酸化反応 40th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2009 2 知京 豊裕, 生田目 俊秀, 長田 貴弘, 梅澤 直人, 吉武 道子, 関口 隆史 Nano Korea 2009 2024-04-26 00:50:15 +0900 Presentation 2009 3 池田　稔, 生田目 俊秀, 鳥海　明, Georg Kresse 次世代CMOSに用いられる高誘電体材料HfO2の第一原理計算を用いた研究 第107回誘電体研究委員会 2024-04-26 00:50:15 +0900