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リー ワチョル
退職
2018年2月退職

研究内容

出版物原則として、2004年以降のNIMS所属における研究成果や出版物を表示しています。

特許
  • 特許第6647590号 垂直磁化膜と垂直磁化膜構造並びに磁気抵抗素子および垂直磁気記録媒体 (2020)
  • 特許第6713650号 垂直磁化膜と垂直磁化膜構造並びに磁気抵抗素子および垂直磁気記録媒体 (2020)
  • 特開2017204542号 垂直磁化膜と垂直磁化膜構造並びに磁気抵抗素子および垂直磁気記録媒体 (2017)
  • 特開2017005243号 垂直磁化膜と垂直磁化膜構造並びに磁気抵抗素子および垂直磁気記録媒体 (2017)
  • No: US2006314825 垂直磁化膜と垂直磁化膜構造並びに磁気抵抗素子および垂直磁気記録媒体 (2016)

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