publication_type article_identifier title year reported_at patent 2020021829 半導体装置および半導体装置の製造方法 2020 2024-04-18 11:30:10 +0900 patent 2020088128 半導体装置および半導体装置の製造方法 2020 2024-04-18 11:30:10 +0900 patent 2020105038 半導体基板の製造方法 2020 2024-04-18 11:30:10 +0900 patent 2020021828 半導体装置の製造方法 2020 2024-04-18 11:30:10 +0900 patent 2019012826 ガリウム窒化物半導体基板の製造方法、ガリウム窒化物半導体装置の製造方法および撮像素子の製造方法 2019 2024-04-18 11:30:10 +0900 patent 2019012827 窒化ガリウム系の半導体装置及びその製造方法 2019 2024-04-18 11:30:10 +0900 patent 2017222549 n型半導体材料、p型半導体材料および半導体素子 2017 2024-04-18 11:30:10 +0900 patent 2014143292 窒化物半導体素子の製造方法 2014 2024-04-18 11:30:10 +0900 patent EP2811526, US2015034961, WO2013115269, 2811526 AIN単結晶ショットキーバリアダイオード及びその製造方法 2013 2024-04-18 11:30:10 +0900 patent CN102365765A, CNN102365765A ショットキー型接合素子とこれを用いた光電変換素子及び太陽電池 2012 2024-04-18 11:30:10 +0900 patent 2011082353 ワイドギャップ半導体のバンドギャップ電子物性の計測方法 2011 2024-04-18 11:30:10 +0900 patent 2009054814 電子素子 2009 2024-04-18 11:30:10 +0900