HOME > 会議録 > 書誌詳細Role of hetero interface of ionic/covalent oxides for Pt/high-k/SiO2/Si MOS capacitors on Vfb shift(Pt/high-k/SiO2/Si MOSキャパシタにおけるイオン性/共有結合性酸化物のヘテロ界面がVfbシフトへ果たす役割)Toshihide Nabatame, Akihiko Ohi, Toyohiro Chikyow. ECS TRANSACTIONS . 2010.https://doi.org/10.1149/1.3481592 NIMS著者生田目 俊秀大井 暁彦知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-27 01:53:34 +0900更新時刻: 2024-04-01 23:12:07 +0900