HOME > Presentation > Detail成長時およびイオン注入によるシリコンナノワイヤへの不純物ドーピング(Impurity doping in silicon nanowires during and after synthesis by ion implantation)深田 直樹, 齋藤直之, 石田慎哉, 横野茂輝, 佐藤 慶介, 陳 君, 関口 隆史, 村上浩一. 2009 MRS Fall Meeting. 2009.NIMS author(s)FUKATA, NaokiCHEN, JunFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at :2017-01-08 03:47:46 +0900 Updated at :2017-07-10 20:42:26 +0900