HOME > 口頭発表 > 詳細Si2H6を用いたSiナノワイヤー成長における基板温度と圧力の影響(Effect of substrate temperature and gas pressure on formation of Si nano-wire with Si2H6)著者鈴木 裕, 荒木 弘, 土佐 正弘, 野田 哲二. 会議名日本金属学会2007年春期大会発表年2007言語Japanese
