HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Si2H6を用いたSiナノワイヤー成長における基板温度と圧力の影響(Effect of substrate temperature and gas pressure on formation of Si nano-wire with Si2H6)鈴木 裕, 荒木 弘, 土佐 正弘, 野田 哲二. 日本金属学会2007年春期大会. 2007.NIMS著者鈴木 裕土佐 正弘Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:47:20 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:50:00 +0900