HOME > Presentation > DetailSiナノワイヤ中のBアクセプタ濃度分布の定量評価(Quantitative analysis of boron concentration in Si nanowaires)滝口亮, 石田慎哉, 横野茂輝, 深田 直樹, 陳 君, 関口 隆史, 菱田 俊一, 村上浩一. 2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会. 2010.NIMS author(s)FUKATA, NaokiCHEN, JunHISHITA, ShunichiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at :2017-01-08 05:41:17 +0900 Updated at :2017-07-10 20:53:24 +0900